泊頭玉嘉環保設備有限公司

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uv光氧除臭設備制造廠家主要是根據的成分利用酸、堿、強氧化劑作為洗滌噴淋溶液與氣體中的分子發生氣-液接觸，使氣相中之成分轉移至液相，并藉化學藥劑與味成分之中和、氧化或其它化學反應去味物質。可洗滌方法物質包括、含氮化合物、有機酸、含氧，含鹵化物等廢棄物質。適用于污水垃圾處理、食品、石油、化工、制藥等行業化學洗滌常用的化學為填充塔，化學吸收液從塔頂往下噴淋，廢氣向上流，與吸收液充分接觸、反應而被去除。uv光氧除臭設備制造廠家吸收液與廢棄流量比例（液/氣比）一般為1-3L/m3，填料高度一般為2-5米，氣流空塔流速一般為0.5-1米/秒。操作良好之填充他，效果可達到90%以上。化學吸收劑常用之包括下列幾種：堿性溶液堿性吸收液常用含有1-10%之溶液，對消除很有效，其它如、硫化甲基、二硫化甲基、低級脂肪酸等經常在廢水處理廠造成臭味之物質，此法可獲得甚佳處理效果。酸性溶液酸液洗滌主要用于消除由氨、等所致，一般多用于硫酸（0.5-5%之溶液）為洗滌液。次氯酸鈉一般與酸堿性吸收液一起使用，對于其它方法很難消除之硫化甲基，使用次氯酸鈉吸收液之控制效果甚佳。處理污水場高濃度氣時，濃度（有效氯濃度）約為500-2000ppm；而處理較低濃度氣時，使用濃度約50-500ppm。以各項氧化劑之性能而言，次氯酸鈉*，效果亦不錯，故zui常使用。在溶液中之次氯酸鈉系以次氯酸（HOCI形勢存在），次氯酸鹽溶液之有效氯以50%HOCI和次氯酸根離子（OCI-）存在。在ph=10，只有0.3%有效氯以HOCI存在，在ph=1或12，HOCI幾乎*解離成無用之次氯酸根離子，因此ph值控制很重要。