快速分析較厚的大尺寸樣品材料

專為鋼鐵、汽車、電子和其他制造行業設計的GX53倒置金相顯微鏡能夠提供傳統顯微鏡觀察方法難以獲得的清晰圖像。
在配合奧林巴斯Stream圖像分析軟件使用情況下，該顯微鏡可讓從觀察到圖像分析及報告的整個檢測流程變得更加順暢。

檢測快捷，功能*

快速觀察、測量和分析金相組織。

*的分析工具
1. 采用組合觀察方法獲得出色圖像
2. 輕松生成全景圖像
3. 生成全聚焦圖像
4. 采集明亮區域和暗光區域 

針對材料學的優化
1. 專為材料科學而設計的軟件
2. 符合行業標準要求的金相分析 

人性化
即便新手操作員也能夠輕松完成樣品觀察、結果分析/報告創建。
1. 輕松恢復顯微鏡設置
2. 用戶指導讓上等分析變得更加簡單
3. 高效的報告創建 

*的成像技術
我們成熟可靠的光學器件和成像技術能夠提供清晰的圖像和可靠的檢測結果。
1. 可靠的光學性能：波前像差控制
2. 清晰的圖像：圖像陰影校正
3. 一致的色溫：高強度白光LED照明
4. **測量：自動校準 

模塊化
根據您的應用要求選擇所需的組件。
1. 打造專屬于您的系統：利用各種選配組件獲得**定制的系統 

                                                         明場              
                                                         襯底層和通孔不可見。

暗場                                                   
痕跡不可見。                    

MIX: 明場+暗場                           
所有組件均可清晰呈現。

                                                       明場
                                                       紋理無法觀察。

暗場象限
色彩信息被去除。

MIX: 明場+暗場象限
材料色彩和紋理均可觀察

金板

                某些部位存在眩光。                                                                                       暗光區域和明亮區域利用HDR獲得清晰呈現。 

鉻擴散涂層

                 對比度低且不清晰。                                                                                                      利用HDR增強對比度。 

                       明場                                                                                                                         暗場  
明場：一種觀察直接照射樣品反射光的常見觀察方法。
暗場：可觀察樣品的散射或衍射光線，因此諸如微小劃痕或瑕疵等缺陷非常明顯。

球墨鑄鐵（明場 / DIC）

                             明場                                                                                                                   DIC觀察  
微分干涉相差顯微技術(DIC)：一種將樣品高度以類似提高了對比度的3D圖像，呈現出浮雕效果的觀察技術；其非常適用于觀察金相結構和礦物等具有極其細微高度差的樣品。

鋁合金（明場/偏光）

                     明場                                                                                                                    偏光觀察  
偏光：一種能夠突出材料紋理和晶體狀態的觀察技術，用于觀察諸如球墨鑄鐵的石墨生長類型等金相結構和礦物。

電子組件（明場/ MIX觀察）

                     明場                                                                                                               MIX: 明場+暗場  
MIX觀察：將明場和暗場相結合，樣品的顏色和結構均可觀察。
上面的MIX觀察圖像清晰再現了該組件的顏色和紋理以及粘合劑層的狀況。

光學系統 光學系統

UIS2光學系統(無限遠校正系統)

顯微鏡鏡架

反射光照明

通過反射鏡單元進行手動明場/暗場選擇 
帶有調中功能的手動視場光闌/孔徑光闌切換 
光源：白光LED（帶光強度控制器）/12 V，100瓦鹵素燈/ 100瓦水銀燈/光導 
觀察模式：明場、暗場、微分干涉相襯（DIC）*1、簡易偏光 *1、MIX觀察（4個定向暗場）*2
* 1該觀察方法需要是用專用插片。*2 需要使用MIX觀察配置。

標尺印記

所有端口與透過目鏡所見觀察位置的反向位置(上/下）

前端口輸出(選配) 

相機和DP系統(倒像, GX專用相機適配器) 

側端口輸出(選配) 

相機, DP系統(正像) 

電氣系統

反射光照明 
用于反射光照明的內置LED電源 
連續可變光強度控制盤 
輸入額定值5 V DC，2.5 A（交流適配器100-240 V，AC 0.4 A，50 Hz/60 Hz） 
透射光照明（需要可選的BX3M-PSLED電源） 
電壓式連續可變光強度控制盤 
輸入額定值5 V DC，2.5 A（交流適配器100-240 V，AC 0.4 A，50 Hz/60 Hz） 
外部接口（需要使用選配BX3M- CBFM控制盒） 
編碼物鏡轉換器連接器×1 
MIX插片（U-MIXR）連接器×1 
手控操作器（BX3M-HS）連接器×1 
手控操作器（U-HSEXP）連接器×1 
RS-232C連接器×1，USB 2.0連接器×1

聚焦

帶有滾輪導軌的齒輪齒條 
手動、粗調和精調同軸手柄; 對焦行程9毫米(2毫米在載物臺平面以上7毫米在載物臺行程以下) 
微調手柄每轉行程: 100微米 (最小刻度: 1微米) 
 粗調手柄每轉行程: 7毫米 
 配粗調焦扭矩調節環 
 配粗調焦上限止動銷

鏡筒

寬視場(FN 22)

倒置: 雙目鏡(U-BI90, U-BI90CT), 三目鏡(U-TR30H-2), 可傾斜雙目鏡 (U-TBI90) 

物鏡轉換器

明場孔: 4至7個, 類型: 手動/編碼,對中: 啟用/禁用 
明場/暗場孔: 5至6個, 類型: 手動/編碼,對中: 啟用/禁用

載物臺

GX右手載物臺(X/Y行程: 50 × 50毫米, 載荷5公斤) 
活動式右手柄載物臺, 左手短手柄載物臺(各自X/Y行程: 50×50毫米，載荷1公斤） 
滑動載物臺（載荷1公斤） 
一套水滴型和長孔型

重量

約25公斤 (顯微鏡架20公斤) 

環境

·室內使用 
·環境溫度：5至40°C（45至100°F） 
·相對濕度：溫度31 °C (88 °F)以內時80% (無冷凝) 
如若超出31 °C (88 °F), 34 °C (93 °F)時相對濕度線性下降到70%，37 °C (99 °F)時下降到60%，40 °C (104 °F)時下降到50% 
·污染等級：2（符合IEC60664-1要求） 
·安裝/過壓分類：II類（符合IEC60664-1要求） 
·電源電壓波動：±10 %