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半自動涂膠顯影機-愛姆加電子

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  • 公司名稱?陜西愛姆加電子設備有限公司
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  • 廠商性質其他
  • 更新時間2023/6/16 9:55:22
  • 訪問次數646
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愛姆加電子設備有限公司專業從事半導體工藝設備的設計、生產。產品系列有:勻膠機、顯影機、半自動勻膠顯影機 、全自動勻膠顯影機、全自動顯影機、半導體噴膠機、槽式(Wet Bench)及單片(Single Wafer)蝕刻_剝離_清洗設備、清洗甩干機、熱板烘烤(Hot Plate)、自動涂膠顯影機|自動砂輪劃片切割等設備;以及開發研制、升級換代、維修服務。公司擁有一批多年從事半導體設備的機械、電氣、光學、計算機、以及從事半導體工藝線生產的專業的高中級工程技術人員,擁用CAD計算機網絡開發系統-FAB的MES等管理軟件,各類檢測儀器等*的設計手段. 產品適應不同工藝等級的客戶要求,廣泛應用于半導體、太陽能、MicroLED、MINILED\MEMS、PUMPING工藝、平板顯示及Photo-MASK等產品的清洗、濕法刻蝕、薄膜旋涂、噴涂、顯影、傳統后道封裝工藝。 公司提供二手機臺TEL/DNS、MARK-V\VZ、MARK7/8、ACT8等廠商設備的備品、備件及應用材料的CMP設備維修翻業務。
特點:手動上下取片自動滴膠、甩膠、勻膠供膠系統排風系統可配EBR&BSR功能
半自動涂膠顯影機-愛姆加電子 產品信息

半自動涂膠顯影機  型號:M+200D

            • 適用用圓片尺寸: 2”、3”、4”;以及5x5,10x10,25x25方片

            • 工藝工步:放置圓片(可輔助定中心) 啟動 防濺罩到上位 真空吸片 防塵帽閉合 電機啟動 吹氮氣 低速滴膠 加速、高速勻膠 上刮邊 下刮邊

            • 電機停止 防塵帽開啟 防濺帽到下位 去真空、卸片(工藝結束)以上各工步流程為自動執行,其中防塵帽、防濺帽、真空具有手動功能;

            • 主軸徑向跳動≤0.02mm,軸向竄動≤0.04mm;

            • 主軸轉速:200~7000轉/分,誤差±20轉/分,連續可調;

            • 主軸加速度(空載):0~3×103rad/秒2,連續可調;

            • 工藝工步時間:0~999.9秒,設定增量±0.1秒;

            • 膠泵排出量:80立方厘米,滴膠量和速度可調;

            • 適用膠液粘度范圍:-4~10000 厘施;

            • 主要指標檢測方法;

            • 主軸徑向跳動及軸向竄動用百分表檢查;

            • 主軸轉速用轉速表檢測,主軸加速度用記憶示波器檢測;

            • 兩頭滴膠量應基本一致,用目測無明顯差異;

            • 各氣路、液路應密封可靠,無泄露現象;

            • 操作、觀察各機械、電器操作件及按鍵應靈活可靠,各顯示應準確無誤;

            • 外觀目視應平整、光滑,表面涂層不允許有脫落、破損等情況;

            • 設備干運行16小時,濕運行16小時(轉速3500r/m)。結束后取下四氟密封套觀察其磨損情況。如有磨損應及時檢查原因并進行更換。

            • 接地可靠。

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