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TEL CLEAN TRACK ACT8(ACT12)涂膠顯影機

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱青島佳鼎分析儀器有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2023/6/18 13:42:51
  • 訪問次數3142
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青島佳鼎實驗室,坐落于城之向陽地——城陽。自2011年成立之初,便誓將科技之光照耀四方。
十年的時間里,公司因擴展數度搬遷,最后選擇接受博士創業園的吸納并安家落戶。與此名交相輝映的是我們30余人的研發團隊,也是以博士后為主。這就為我們今后的發展奠定了堅實的基礎,使我們在未來的發展中,有底氣的大踏步前進。目前,佳鼎實驗室已經形成了一站式服務,不僅有實驗室分析儀器設備的研發和銷售,更有實驗室的整體交付。做到了初時毛坯,再見時嚴謹整潔,隨時可以為人類健康貢獻自己的力量。
產品服務于各行各業,從科研機構到環境、食品,從醫藥生物到電子電器。我們從不止步于國內,放眼,我們聯合了包括美國賽默飛世爾、日本島津、在內的多國實驗室,并且積累了大量的科研資料,在分析設備的研發領域做了大量的深度工作。
佳鼎實驗室堅信以質量為生命,以客戶為中心的經營理念,為打造實驗室建設規范化而不斷奮斗。

日本東京電子公司生產的TEL牌涂膠顯影機CLEANTRACKACT8/12,是有著良好性能和可靠性的半導體微電子生產設備,是可對應200/300mm硅片生產的涂膠顯影設備
TEL CLEAN TRACK ACT8(ACT12)涂膠顯影機 產品信息

日本東京電子公司生產的TEL牌涂膠顯影機CLEANTRACK ACT8/12,是有著良好性能和可靠性的半導體微電子生產設備,是可對應200/300mm硅片生產的涂膠顯影設備。

半導體制造設備涂膠顯影機,應用于半導體制造的光刻工藝中,是感光劑(photoresist)的涂布(coat)和顯影(develop)的設備。在該設備的涂膠(coat)單元中,硅片上面的感光劑首先被涂布,后被送到曝光設備里,通過光刻機將MASK上面圖形投影到硅片上。

接下來,硅片回到涂膠顯影機的顯影單元中,通過對硅片表面感光膠噴涂顯影液,使被感光部分的感光劑融化,這樣wafer上就出現了凹凸的圖形。經過各種工序重復,最終就形成了細微而復雜的集成電路。

設備各個單元功能說明

 涂膠顯影機各單元功能說明


工藝技術指標與要求:

涂膠膜厚均勻性:3sigma 小于 10nm
顯影條寬均勻性:(0.15μmCD 測試)3sigma 小于 10nm
腔體氨氣濃度:<1ppb(FAB 環境小于 100ppb 條件下)
CHP 熱板(如果有):50~200℃(±0.3℃)
產能:60WPH
與曝光機聯機要求:需與曝光機聯機作業(inline)。


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