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H94-25C型4″單面光刻機(jī)

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱杭州華盼科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)H94-25C型
  • 所  在  地杭州市
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2023/10/10 18:46:06
  • 訪問次數(shù)234
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杭州華盼科技有限公司成立于2013年,坐落于美麗的“天堂之都”杭州,專業(yè)從事各類國(guó)內(nèi)外科學(xué)儀器、測(cè)量?jī)x器、實(shí)驗(yàn)室設(shè)備產(chǎn)品銷售、技術(shù)推廣、售后服務(wù)、技術(shù)開發(fā)等為一體綜合發(fā)展的高科技公司,為高校、科研及工業(yè)用戶提供測(cè)試測(cè)量設(shè)備、分析儀器及解決方案。 華盼人始終堅(jiān)持“客戶至上、用心服務(wù)、誠(chéng)信立業(yè)、合作共贏”的經(jīng)營(yíng)理念,秉承“誠(chéng)信、嚴(yán)謹(jǐn)、熱情、高效”的企業(yè)作風(fēng),發(fā)揚(yáng)“團(tuán)結(jié)、務(wù)實(shí)、拼搏、創(chuàng)新”的企業(yè)精神,立足廣大客戶,以誠(chéng)信經(jīng)營(yíng)參與競(jìng)爭(zhēng),以優(yōu)質(zhì)服務(wù)占領(lǐng)市場(chǎng),與時(shí)俱進(jìn),共同發(fā)展!竭誠(chéng)希望與廣大的客戶建立一個(gè)長(zhǎng)期互贏的合作關(guān)系!
簡(jiǎn)要描述:主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。
H94-25C型4″單面光刻機(jī) 產(chǎn)品信息

主要用途
主要用于中小規(guī)模集成電路、半導(dǎo)體元器件、聲表面波器件的研制和生產(chǎn)。由于本機(jī)找平機(jī)構(gòu)*,找平力小、使本機(jī)不僅適合硅片、玻璃片、陶瓷片、寶石片的曝光,而且也適合易碎片如砷化鉀、磷化銦等基片的曝光以及非圓形基片和小型基片的曝光。

主要構(gòu)成
主要由高精度對(duì)準(zhǔn)工作臺(tái)、雙目分離視場(chǎng)CCD顯微顯示系統(tǒng)、多點(diǎn)光源(蠅眼)曝光頭、PLC電控系統(tǒng)、氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)、直聯(lián)式真空泵、二級(jí)防震工作臺(tái)和附件箱等組成。

主要功能特點(diǎn)
1.適用范圍廣
適用于Φ100mm以下(較小尺寸為Φ5mm),厚度5mm以下的各種基片(包括非圓形基片)的對(duì)準(zhǔn)曝光。
2.分辨率高
采用高均勻性的多點(diǎn)光源(蠅眼)曝光頭,非常理想的三點(diǎn)式自動(dòng)找平機(jī)構(gòu)和穩(wěn)定可靠的真空密著裝置,使本機(jī)的曝光分辨率大為提高。
3.套刻精度高、速度快
采用版不動(dòng)片動(dòng)的下置式三層導(dǎo)軌對(duì)準(zhǔn)方式,使導(dǎo)軌自重和受力方向保持一致,自動(dòng)消除間隙;承片臺(tái)升降采用無間隙滾珠直進(jìn)導(dǎo)軌、氣動(dòng)式Z軸升降機(jī)構(gòu)和雙簧片微分離機(jī)構(gòu),使本機(jī)片對(duì)版在分離接觸時(shí)漂移特小,對(duì)準(zhǔn)精度高,對(duì)準(zhǔn)速度快,從而提高了版的復(fù)用率和產(chǎn)品的成品率。
4.可靠性高
采用PLC控制器、進(jìn)口電磁閥和按鈕、的氣動(dòng)系統(tǒng)、真空管路系統(tǒng)和經(jīng)過精密機(jī)械制造工藝加工的零件,使本機(jī)具有非常高的可靠性且操作、維護(hù)、檢修簡(jiǎn)便。
5.特設(shè)“碎片”處理功能
解決非圓形基片、碎片和底面不平的基片造成的版片分離不開所引起的版片無法對(duì)準(zhǔn)的問題。

主要技術(shù)指標(biāo)

1.曝光類型:?jiǎn)蚊妫?/span>

2.曝光面積:110×110mm;★

3.曝光照度不均勻性:≤3%;★

4.曝光強(qiáng)度:≥40mw/cm2可調(diào);★

5.紫外光束角:≤3?;★

6.紫外光中心波長(zhǎng):365nm、404nm、435nm可選:

7.紫外光源壽命:≥2萬小時(shí);

8.曝光分辨率:1μm;

9.曝光模式:可選擇一次曝光或套刻曝光;

10.顯微鏡掃描范圍:X:±40mm Y:±40mm;★

11.對(duì)準(zhǔn)范圍:X、Y粗調(diào)±3mm,細(xì)調(diào)±0.3mm;Q粗調(diào)±15°,細(xì)調(diào)±3°;★

12.套刻精度:1μm;★

13.分離量;0~50μm可調(diào);★

14.接觸-分離漂移:≤1μm;★

15.曝光方式:密著曝光,可實(shí)現(xiàn)硬接觸、軟接觸和微力接觸曝光;

16.找平方式:三點(diǎn)式自動(dòng)找平;★

17.顯微系統(tǒng):雙視場(chǎng)CCD系統(tǒng),顯微鏡45X~300X連續(xù)變倍(物鏡1.1X~7.5X連續(xù)變倍),雙物鏡距離可調(diào)范圍11mm~100mm,計(jì)算機(jī)圖像處理系統(tǒng),19″液晶監(jiān)視器;★

18.掩模版尺寸:3″×3″、4″×4″、5″×5″;★

19.基片尺寸:φ2、φ3、φ4;★

20.基片厚度:≤5 mm;

21.曝光定時(shí):0~999.9秒可調(diào);

22.對(duì)準(zhǔn)方式:切斯曼對(duì)準(zhǔn)機(jī)構(gòu)。★

23.曝光頭轉(zhuǎn)位:氣動(dòng);

24. 電源:?jiǎn)蜗郃C220V 50HZ ,功耗≤1KW;

25.潔凈空氣壓力:≥0.4MPa;

26.真空度:-0.07MPa~-0.09MPa;

27.尺寸: 920mm(長(zhǎng))×680mm(寬)×1600mm(高);

28.重量:約180Kg。

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