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桌面式小型濺射儀

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱鄭州科探儀器設備有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地鄭州市
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2024/5/3 11:41:28
  • 訪問次數89
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鄭州科探儀器設備有限公司是集開發、制造、經營為一體的材料創新型企業,如今公司的產品已經遍布國內大多數實驗室 及*校,科探儀器已經成為老師 同學歡迎和信任的品牌之一公司以科技創新為主,服務社會為宗旨,積極設計開發新型材料制備設備,奉獻于教育和科學,經過長期的研發和不斷地技術積累,擁有熱工,制造,控制相關技術10余項,為化學,物理,材料,電子,高分子工程,新材料制備和研發領域的科學研究提供了精良設備。公司通過和院校老師 同學強強聯合,形成了有效的信息,技術交流平臺,為科探儀器了解市場需求提供了強有力的支持!。目前公司已研發生產產品十多個系列幾十款產品,產品囊括實驗電爐、CVD供氣系統、等離子清洗機、小型離子濺射儀、小型蒸鍍儀等,主要適用于科研院校及工礦企業在新材料、新能源等領域物理特性及化學特性的研究,廣銷于各大院校,及材料研究所。公司與國內高校,科研院所有多層次的合作關系,建有開放實驗室,相關領域的教授、高級工程師、博士參與公司產品的研究和開發。我們秉承公司的發展理念,依靠嚴謹的技術研發能力,科學合理的生產工藝,精益求精的制造要求,全心全意做好產品質量和服務工作,科探儀器時刻懷著一顆真誠的心期待與您的合作。
溫度控制儀
桌面式小型濺射儀KT-Z1650PVD磁控濺射是一種常用的物理氣相沉積(PVD)的方法,具有沉積溫度低、沉積速度快、所沉積的薄膜均勻性好,成分接近靶材成分等眾多優點。
桌面式小型濺射儀 產品信息

桌面式小型濺射儀KTZ1650PVD

傳統的濺射技術的工作原理是:在高真空的條件下,入射離子(Ar+)在電場的作用下轟擊靶材,使得靶材表面的中性原子或分子獲得足夠動能脫離靶材表面,沉積在基片表面形成薄膜。但是,電子會受到電場和磁場的作用,產生漂移,因而導致傳濺射效率低,電子轟擊路徑短也會導致基片溫度升高,為了提高濺射效率,在靶下方安裝強磁鐵,和周圈分別為NS極。電子由于洛倫茲力的作用被束縛在靶材周圍,并不斷做圓周運動,產生更多的Ar+轟擊靶材,大幅提高濺射效率,如圖所示,采用強磁鐵控制的濺射稱為磁控濺射。

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桌面式小型濺射儀KTZ1650PVD廠家供應技術參數;

控制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

濺射電源

直流濺射電源

鍍膜功能

0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1000W

輸出電壓電流

電壓≤1000V  電流≤1A

真空

機械泵 ≤5Pa(5分鐘)   分子泵≤5*10^-3Pa

濺射真空

≤30Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 170mm

樣品臺

可旋轉φ62  (可安裝φ50基底)

樣品臺轉速

8轉/分鐘

樣品濺射源調節距離

40-105mm

真空測量

皮拉尼真空計(已安裝 測量范圍10E5Pa  1E-1Pa)

預留真空接口

KF25抽氣口    KF16放氣口   6mm卡套進氣口



關鍵詞:人機界面
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