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納米激光粒度儀380

參考價(jià)面議
具體成交價(jià)以合同協(xié)議為準(zhǔn)
  • 公司名稱四川宇欣科技有限公司
  • 品       牌
  • 型       號(hào)
  • 所  在  地成都市
  • 廠商性質(zhì)其他
  • 更新時(shí)間2024/6/1 8:39:18
  • 訪問次數(shù)160
產(chǎn)品標(biāo)簽:

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四川宇欣科技有限公司注冊(cè)地址位于中國(四川)自由貿(mào)易試驗(yàn)區(qū)四川省成都市天府新區(qū)南段2039號(hào)和美·海堂中心(天府創(chuàng)客)16樓1609號(hào),注冊(cè)機(jī)關(guān)為天府新區(qū)成都片區(qū)工商行政管理局,法人代表為陳欣宇,經(jīng)營范圍包括研發(fā)、生產(chǎn)、銷售實(shí)驗(yàn)儀器設(shè)備、機(jī)電設(shè)備、電氣設(shè)備、電子產(chǎn)品、半導(dǎo)體產(chǎn)品;
產(chǎn)品型號(hào):380N3000產(chǎn)品名稱:Nicomp380N3000納米激光粒度儀產(chǎn)品標(biāo)簽:粒度儀
納米激光粒度儀380 產(chǎn)品信息

產(chǎn)品型號(hào):380 N3000

產(chǎn)品名稱:Nicomp 380 N3000 納米激光粒度儀

產(chǎn)品標(biāo)簽:粒度儀,激光粒度儀,納米粒度儀,粒徑分析儀,平均粒徑分布

1.【USP729】檢測項(xiàng)目I推薦;
2.符合中國藥典2010版;
3.的Nicomp多峰算法;
4.的自動(dòng)稀釋模塊;
5.精確度高;
6.特為多組分不均勻體系設(shè)計(jì);
7.模塊化設(shè)計(jì)便于維護(hù)和升級(jí);
8.可配搭多種功率光源和檢測器





產(chǎn)品介紹:

專為復(fù)雜體系提供高精度粒度解析方案


NICOMP呈現(xiàn)的不僅僅是傳統(tǒng)的高斯正態(tài)分布,還有更多。。。。。。



NICOMP 380N3000納米粒徑分析儀


Nicomp 380 N3000 納米粒徑分析儀采用動(dòng)態(tài)光散射原理檢測分析顆粒的粒度分布,主要用于檢測納米級(jí)別的膠體體系,其粒徑檢測范圍 0.3 nm- 10μm。Nicomp 380系列儀器復(fù)合采用了 Gaussian 單峰算法和的 Nicomp 多峰算法,對(duì)于多組分、粒徑分布不均勻液態(tài)分散體系的分析以及膠體體系的穩(wěn)定性分析具有優(yōu)勢,其優(yōu)異的解析度及重現(xiàn)性是其他同類產(chǎn)品的。

基線調(diào)整自動(dòng)補(bǔ)償功能和高分辨率多峰算法是Nicomp 380系列儀器所的兩個(gè)主要特點(diǎn),通過多年在不同領(lǐng)域的實(shí)踐證明,Nicomp380系列儀器可以有效區(qū)分開相鄰峰,也可以識(shí)別并剔除少數(shù)較大粒子造成的雜峰。如下圖所示:

Nicomp 380納米粒徑分析儀可以有效區(qū)分開相鄰峰




動(dòng)態(tài)光散射&模塊化設(shè)計(jì)

標(biāo)準(zhǔn)配置的Nicomp 380 納米粒徑分析儀裝載了 15 mW的半導(dǎo)體激光光源,PMT探測器,以及固定90度檢測角。進(jìn)樣方式為嵌入式樣品池。

Nicomp 380納米粒徑分析儀是在應(yīng)用動(dòng)態(tài)光散射技術(shù)上的基礎(chǔ)上加入多模塊方法的粒度儀。隨著模塊的升級(jí)和增加,Nicomp 380的功能體系越來越強(qiáng)大,可以用于各種復(fù)雜體系的檢測分析。

自動(dòng)稀釋模塊

帶有的自動(dòng)稀釋模塊消除了人工稀釋高濃度樣品帶來的誤差,且不需要人工不斷試錯(cuò)來獲得合適的測試濃度,這大大縮短了測試者寶貴時(shí)間,且無需培訓(xùn),測試結(jié)果重現(xiàn)性好,誤差率<1%。

380/HPLD大功率激光器

美國PSS粒度儀公司在開發(fā)儀器的過程中,考慮到在各種實(shí)驗(yàn)測試條件中不同的需求,對(duì)不用使用條件和環(huán)境配置了不同功率的激光發(fā)生器。大功率的激光器可以對(duì)極小的粒子也能搜集到足夠的散射信號(hào),使得儀器能夠得到極小粒子的粒徑分布。同樣,大功率激光器在測試大粒子的時(shí)候同樣也很有幫助,比如在檢測右旋糖酐大分子時(shí),折射率的特性會(huì)引起光散射強(qiáng)度不足。

因?yàn)榇蠊β始す馄鞯奶匦裕瑫?huì)彌補(bǔ)散射光強(qiáng)的不足和衰減,測試極其微小的微乳、表面活性劑膠束、蛋白質(zhì)以及其他大分子不再是一個(gè)苛刻的難題。即使沒有色譜分離,Nicomp 380納米粒徑分析儀甚至也可以輕易估算出生物高分子的聚集程度。

雪崩二極管 (APD) 探測器


Nicomp 380納米粒徑分析儀可以裝配各種大功率的激光發(fā)生器和級(jí)別的雪崩二極管檢測器(相比較傳統(tǒng)的光電倍增管有7倍放大增益效果)。

APD通常被用于散射發(fā)生不明顯的體系里來增加信噪比和敏感度,如蛋白質(zhì)、不溶性膠束、濃度極低的體系以及大分子基團(tuán),他們的顆粒的一般濃度為1mg/mL甚至更低,這些顆粒是由對(duì)光的散射不敏感的原子組成。APD外置了一個(gè)大功率激光發(fā)生器模塊,在非常短的時(shí)間內(nèi)就能檢測分析納米級(jí)顆粒的分布情況。


380/MA多角度檢測器


粒徑大于100 nm的顆粒在激光的照射下不會(huì)朝著各個(gè)方向散射。多角度檢測角器通過調(diào)節(jié)檢測角度來增加粒子對(duì)光的敏感性來測試某些特殊級(jí)別粒子。Nicomp 380可以配備范圍在10°-175°,步長0.9°的多角度測角器,從而使得單一90°檢測角測試不了的樣品,通過調(diào)節(jié)角度進(jìn)行檢測,改善對(duì)大粒子多分散系粒徑分析的精確度。


NICOMP 380 N3000 納米粒徑分析儀產(chǎn)品優(yōu)勢


檢測范圍

0.3 nm -10 μm

測量

無需校準(zhǔn)

應(yīng)用領(lǐng)域廣

檢測速度快

靈敏度高

對(duì)團(tuán)聚粒子靈敏度高(D6)

功能全面

使用簡捷

復(fù)合型算法

高斯(Gaussion)單峰算法與的Nicomp多峰算法結(jié)合

模塊化設(shè)計(jì)

可同機(jī)搭載ZETA電位檢測模塊,還可增加自動(dòng)稀釋和自動(dòng)滴定等輔助測試模塊



工作原理:

動(dòng)態(tài)光散射原理


Nicomp 380納米粒徑分析儀采用動(dòng)態(tài)光散射(Dynamic Light Scattering, DLS)原理來獲得范圍在0.3 nm到10 μm的膠體體系的粒度分布。DLS是通過一定波長的聚焦激光束照射在懸浮于樣品溶液的粒子上面,從而產(chǎn)生很多的散射光波。這些光波會(huì)互相干涉從而影響散射強(qiáng)度,散射強(qiáng)度隨時(shí)間不斷波動(dòng),二者之間形成一定的函數(shù)關(guān)系。粒子的擴(kuò)散現(xiàn)象(或布朗運(yùn)動(dòng))導(dǎo)致光強(qiáng)不斷波動(dòng)。光強(qiáng)的變化可以通過探測器檢測得到。使用自相關(guān)器分析隨時(shí)間而變的光強(qiáng)波動(dòng)就可以得到粒度分布系數(shù)(Particle size distribution, PSD)。單一粒徑分布的自相關(guān)函數(shù)是一個(gè)指數(shù)衰減函數(shù),由此可以很容易通過衰減時(shí)間計(jì)算得到粒子擴(kuò)散率。最終,粒子的半徑可以很容易地通過斯托克斯(Stokes-Einstein)方程式計(jì)算得到。




如下是Nicomp 380納米粒徑分析儀的檢測原理簡圖:


大部分樣品一般都不均勻,往往會(huì)呈現(xiàn)多分散體系狀態(tài),即測出來的粒徑正態(tài)分布范圍會(huì)比較大,直觀的呈現(xiàn)是粒徑分布峰比較寬。自相關(guān)函數(shù)是由多組指數(shù)衰減函數(shù)綜合組成,每一個(gè)指數(shù)衰減函數(shù)都會(huì)因指數(shù)衰減時(shí)間不同而存在差異,此時(shí)計(jì)算自相關(guān)函數(shù)就變得不再簡單。


Nicomp 380納米粒徑分析儀巧妙運(yùn)用了去卷積算法來轉(zhuǎn)化原始數(shù)據(jù),從而得出真實(shí)值的粒度分布。Nicomp 尤其適合測試粒度分布復(fù)雜的樣品體系,利用一組的去卷積算法將簡單的高斯正態(tài)分布模擬成高分辨率的多峰分布模式,這種去卷積分析方法,即得到PSS粒度儀公司的粒徑分布表達(dá)方法—Nicomp分布(Nicomp Distribution)。


有些儀器的高斯分析模式可以使用基線調(diào)整參數(shù)的功能,以此來補(bǔ)償測試環(huán)境太臟而超出儀器靈敏度的問題。高斯分析模式也可以允許使用者“固體重量模式”或者“囊泡重量模式”來分析帶有小囊泡的膠體體系,比如脂質(zhì)體。


Nicomp分析方法是一種的高分辨率的去卷積算法,它在1990年提出并應(yīng)用于分析和統(tǒng)計(jì)粒徑分布。在歷已經(jīng)證明Nicomp分析方法能夠精確分析非常復(fù)雜的雙峰樣品分散體系(比如 2:1比例),甚至是三峰樣品分散體系。在科學(xué)研究中,找到粒子聚集分布的雜峰是非常有用的。

儀器參數(shù):


粒徑檢測范圍

粒度分析:0.3 nm - 10 μm

數(shù)字相關(guān)器通道數(shù)

1024

分析方法

動(dòng)態(tài)光散射,Gaussian 單峰算法和 Nicomp 無約束自由擬合多峰算法

pH值范圍

2 - 12

溫度范圍

2℃ - 90 ℃

激光光源(可選)

5 mW氦氖光源;

15 mW, 35 mW,50 mW激光光源;

100 mW激光光源(紅);

20 mW,50 mW,100 mW激光光源(藍(lán)/綠)

檢測角度(可選)

90°或 多角度(10°- 175°,可選配)

檢測器(可選)

PMT(光電倍增管),

CMP(4倍增益放大)

APD雪崩二極管(7倍增益放大)

高濃度樣品背散射

175°背散射

可用溶劑

水相,絕大多數(shù)有機(jī)相

樣品池

標(biāo)準(zhǔn)4 mL樣品池(1cm×4cm,高透光,石英玻璃或塑料);

1mL樣品池(玻璃,高透光率微量樣品池,最小進(jìn)樣量10μL)

選配模塊

ZETA電位模塊(高頻相位分析技術(shù),PALS)

高濃度背散射;自動(dòng)稀釋模塊,自動(dòng)進(jìn)樣器,多角度檢測器,高能激光發(fā)生器,高增益檢測器,21CFR PART11規(guī)范軟件,在線模塊。

分析軟件

Windows 兼容軟件;

符合 21 CFR Part 11 規(guī)范分析軟件(可選)

驗(yàn)證文件

電壓

220 – 240 VAC,50Hz 或100 – 120 VAC,60Hz

計(jì)算機(jī)配置要求

Windows XP及以上版本windows操作系統(tǒng),40Gb硬盤,1G內(nèi)存,光驅(qū),USB接口,串口(COM口)

外形尺寸

56 cm * 41 cm * 24cm

重量

約26kg(與配置有關(guān))

應(yīng)用領(lǐng)域:


NICOMP 380N3000納米粒徑分析儀廣泛適用于檢測懸浮在水相和有機(jī)相的顆粒物。


1)磨料

磨料既有天然的也有合成的,用于研磨、切削、鉆孔、成形以及拋光。磨料是在力的作用下實(shí)現(xiàn)對(duì)硬度較低材料的磨削。磨料的質(zhì)量取決于磨料的粗糙度和顆粒的均勻性。


2)化學(xué)機(jī)械拋光液(CMP SLURRY)

化學(xué)機(jī)械拋光是半導(dǎo)體制造加工過程中的重要步驟。化學(xué)機(jī)械拋光液是由腐蝕性的化學(xué)組分和磨料(通常是氧化鋁、二氧化硅或氧化鈰)兩部分組成。拋光過程很大程度上取決于晶片表面構(gòu)型。晶片的加工誤差通常以埃計(jì),對(duì)晶片質(zhì)量至關(guān)重要。拋光液粒度越均勻、不聚集成膠則越有利于化學(xué)機(jī)械拋光加工過程的順利進(jìn)行。


3)陶瓷

陶瓷在工業(yè)中的應(yīng)用非常廣泛,從磚瓦到生物材料及半導(dǎo)體領(lǐng)域。在生產(chǎn)加工過程中監(jiān)測陶瓷顆粒的粒度及其粒度分布可以有效地控制最終產(chǎn)品的性能和質(zhì)量。


4)粘土

粘土是一種含水細(xì)小顆粒礦物質(zhì)天然材料。粉砂與粘土類似,但粉沙的顆粒比粘土大。粘土中易于混雜粉砂從而降低粘土的等級(jí)和使用性能。ISO14688定義粘土的顆粒小于63μm。


5)涂料

涂料種類繁多,用途廣泛。涂料的顆粒大小及粒度分布直接影響涂料的質(zhì)量和性能。


6)污染監(jiān)測

粒度檢測分析在產(chǎn)品的污染監(jiān)測方面起著重要作用,產(chǎn)品的污染對(duì)產(chǎn)品的質(zhì)量影響巨大。絕大多數(shù)行業(yè)都有相應(yīng)的標(biāo)準(zhǔn)、規(guī)程或規(guī)范,必須嚴(yán)格遵守和執(zhí)行,以保證產(chǎn)品滿足質(zhì)量要求。


7)化妝品

無論是普通化妝品還是保濕劑、止汗劑,它們的性能都直接與粒度的大小和分布有關(guān)。化妝品的顆粒大小會(huì)影響其在皮膚表面的涂抹性能、分布均勻性能以及反光性能。保濕乳液(一種乳劑)的粒度小于200納米時(shí)才能被皮膚良好吸收,而止汗劑的粒度只有足夠大時(shí)才能阻塞毛孔起到止汗的作用。


8)乳劑

乳劑是兩種互不相溶的液體經(jīng)乳化制成的非均勻分散體系,通常是水和油的混合物。乳劑有兩種類型,一種是水分散在油中,另一種是油分散在水中。常見的乳劑制品有牛奶(水包油型)和黃油(油包水型),加工過程中它們均需均質(zhì)化處理到所需的粒徑大小以期延長保質(zhì)期。


9)食品

食品的原料(粉末及液體)通常來源于不同的加工廠,不同來源的原料必須滿足某些特定的標(biāo)準(zhǔn)以使最終制品的質(zhì)量均一穩(wěn)定。原料性質(zhì)的任何波動(dòng)都會(huì)對(duì)食品的口味和口感產(chǎn)生影響。用原料的粒度分布作為食品質(zhì)量保證和質(zhì)量控制(QA/QC)的一個(gè)指標(biāo)可確保生產(chǎn)出質(zhì)量均以穩(wěn)定的食品制品。


10)液體工作介質(zhì)/油

液體工作介質(zhì)(如:油)越來越昂貴,延長液體介質(zhì)的壽命是目前普遍關(guān)心的問題。機(jī)械設(shè)備運(yùn)轉(zhuǎn)過程中會(huì)產(chǎn)生金屬屑或顆粒落入工作介質(zhì)中(如:油浴潤滑介質(zhì)或液力傳遞介質(zhì)),因此需要一種方法來確定介質(zhì)(油)的更換周期。通過監(jiān)測工作介質(zhì)(油)中顆粒的分布和變化可以確定更換工作介質(zhì)的周期以及延長其使用壽命。


11)墨水

隨著打印機(jī)技術(shù)的不斷發(fā)展,打印機(jī)用的墨水變得越來越重要。噴墨打印機(jī)墨水的粒度應(yīng)當(dāng)控制在一定的尺度以下,且分布均勻,大的顆粒易于堵塞打印頭并影響打印質(zhì)量。墨水是通過研磨方法制得的,可用粒度檢測分析儀器設(shè)備監(jiān)測其研磨加工過程,以保證墨水的顆粒粒度分布均勻,避免產(chǎn)生聚集的大顆粒。


12) 膠束

膠束是表面活性劑在溶液中的濃度超過某一臨界值后,其分子或離子自動(dòng)締合而成的膠體尺度大小的聚集體質(zhì)點(diǎn)微粒,這種膠體質(zhì)點(diǎn)與離子之間處于平衡狀態(tài)。

乳液、色漆、制藥粉體、顏料、聚合物、蛋白質(zhì)大分、二氧化硅以及自組裝TiO_2納米管(TNAs)等




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