電源 | · AC 110V/220V 50/60Hz · 功率:50W |
推桿移動速度 | · 0.1-30mm/S · 調(diào)節(jié)精度:±1mm/秒 |
涂布長度 | · 10-920mm(偏差±1mm,建議涂布長度≦920mm) |
涂布速度 | · 0.1-30mm/s(偏差≦1mm/s) |
涂布平板 | · 涂布平板采用精密大理石制作 · 平整度≦±2.5um · 平板區(qū)域面積:550mmW×1100mmL · 一對基底固定夾在涂布平板兩端 · 設(shè)備中包含一個(gè)收料托盤,用于收集多余漿料 · 大理石平板安裝在一個(gè)支架上,支架底部有調(diào)節(jié)輪,可調(diào)節(jié)大理石平板高度 |
厚度可調(diào)刮刀 | · 設(shè)備中包含一個(gè)厚度可調(diào)刮刀,刮刀框架上安裝有4個(gè)滾輪,便于推動 · PTFE擋板和漿料導(dǎo)料板安裝在框架內(nèi)部 · 標(biāo)準(zhǔn)寬度:500mm · 涂布厚度精度:±5um或厚度均勻度10% ·可選購各種寬度的擠壓涂布(需額外費(fèi)用)
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加熱蓋(可選) | · 可選購一個(gè)頂部加熱蓋,加熱溫度可達(dá)100℃ |
產(chǎn)品尺寸 | ·1600L * 1000W * 1200Hmm |
凈重 | 約650kg |
公司目前主要從事氧化物晶體(A-Z)系列材料研發(fā)生產(chǎn)、濺射靶材制備和材料實(shí)驗(yàn)室及電池研發(fā)全套設(shè)備。公司從成立之初研發(fā)高溫超導(dǎo)薄膜基片大尺寸LaAlO3單晶做起,目前MgAlO4、NdGaO3、LSAT、3英寸LaAlO3等晶體是世界唯yi供應(yīng)商。設(shè)備研發(fā)的各種高溫爐,大尺寸高溫高壓爐,熱等靜壓爐,單晶生長爐等,用于石墨烯、高通量、蒸發(fā)鍍膜、高溫超導(dǎo)薄膜、超導(dǎo)塊材和線材的制備設(shè)備,涉及新能源材料,電池制備等成套設(shè)備,并為科研工作者提供材料研究解決方案,已經(jīng)成為企業(yè)。
儀器儀表
自動涂布機(jī)(550mmW*1100mmL大理石平板,500mm寬可調(diào)刮刀) 產(chǎn)品信息