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電子行業用超純水設備
[摘要]：電子行業中像電解電容、電子管、玻璃殼、硅晶片的生產中用到16-18MΩ.CM超純水,除了對水的純度要求高以外對電顆粒雜質以及TOC有更高要求，提供三種工藝 流程，并以3T/H設備描述了反滲透（RO）+EDI（電去離子）方法制取超純水的設備。
［關鍵詞］：電子行業 電解電容 硅片清洗 陰極顯像管 超純水 反滲透 edi 混床 典型工藝流程 工程實例
一、電子行業高純水除鹽裝置應用范圍概述：
1、電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗電子管生產
2、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液顯像管和陰極射線管生產
3、配料用純水黑白顯像管熒光屏生產 玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水液晶顯示器的生產屏面需用純水清洗和用純水配液晶體管生產中主要用于清洗硅片等。
二、電子行業超純水工藝流程
◆典型工藝流程
預處理系統→反滲透系統→中間水箱→粗混合床→精混合床→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→精密過濾器→用水對象 （≥18MΩ.CM）
◆傳統工藝流程
預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→拋光混床→0.22或0.5um精密過濾器→用水對象（≥18MΩ.CM）
◆其它工藝流程
1、預處理→一級反滲透→加藥機（PH調節）→中間水箱→第二級反滲透（正電荷反滲膜）→純水箱→純水泵→EDI裝置→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水對象（≥17MΩ.CM）
2、預處理→反滲透→中間水箱→水泵→EDI裝置→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→0.2或0.5μm精密過濾器→用水終端（≥15MΩ.CM）
EDI+拋光混床后處理系統
三、處理后水質標準
經過高純水除鹽設備后，出水水質可以滿足顯像管、液晶顯示器、 集成電路用水標準。 國家電子級純水標準、 美國SEMI標準。
工程實例
3t/h電子行業用高純水系統工藝流程如下：
原水管道－原水加壓泵－多介質過濾器－活性炭過濾器－軟水器－精密過濾器－反滲透機－中間水箱-EDI裝置－中間水箱-拋光樹脂-紫外線殺菌器-終端精密過濾器－用水點-回中間水箱 .........
3t/h電子行業用高純水系統配置清單如下：
| 序號 | 名稱 | 規格、型號 | 單位 | 數量 |
| 1 | 自來水加壓泵 | CH4－40 4t/h 流量4m3/h 40m揚程帶自控 | 臺 | 1 |
| 2 | 多介質過濾器 | JCW 180/440 2472 阿圖祖閥 FRP罐體 | 套 | 1 |
| 3 | 全自動炭過濾器 | JCF 180/440 2472 阿圖祖閥 FRP罐體 | 套 | 1 |
| 4 | 全自動軟水器 | JWS 180/440 2472 阿圖祖閥 FRP罐體 | 套 | 1 |
| 5 | 保安過濾器 | Ф220*1000 5μm SUS304 | 臺 | 1 |
| 6 | 反滲透設備 | RO3000 3t/h 美國陶氏反滲透膜 | 套 | 1 |
| 7 | 中間水箱 | 2000L SUS304 帶水位控制器 | 套 | 1 |
| 8 | EDI裝置 | EDI3000 3t/h 根據用戶要求選用EDI品牌 | 套 | 1 |
| 9 | 中間水罐 | 1000L SUS304 | 套 | 1 |
| 10 | 純水水泵 | CDL4-30 | 臺 | 1 |
| 11 | 拋光混床 | 1447 混床專用玻璃鋼罐體 拋光樹脂 | 套 | 1 |
| 12 | 紫外線殺菌器 | 3t/h SUS304 | 套 | 1 |
| 13 | 終端精密過濾器 | 0.5μm SUS304 | 臺 | 1 |
四、電子行業高純水設備特點
為滿足用戶生產工藝用水需求，達到符合標準的水質，盡可能地減少各級的污染，延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量。在工藝設計上，源水（市政自來水），經多介質過濾器，活性碳過濾器，鈉型陽離子軟化器、精密過濾器等預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床（EDI電除鹽系統）裝置等。 系統中水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人職守，由PLC控制系統完成包括阻垢劑計量泵、高壓泵、電動慢開門的順序啟動和停止；停運時反滲透裝置的自動低壓沖洗；運行過程中低壓壓力開關與系統的連鎖運行；各轉動設備的運行監測和報警等。
佳迪水處理公司生產的電子行業高純水除鹽裝置、超純水處理設備、反滲透脫鹽機組可滿足電子行業不同客戶對生產工藝用水的需求
本頁關鍵詞：電子行業電解電容器、晶體管、顯示屏、電子元器件超純水系統。
