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RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀
RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀，是目前國際的新型XAFS/XES光譜儀。RLK900居于新原理和新結構；采用的、的SBCA晶體，實現X射線的單色掃描；采用小功率的X-Ray源，使研究試驗室內就能夠方便運行。
RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀，可以完成XAS(X-ray Absorbtion SpectroScopy)和XES(X-ray Emmision Spectroscopy)兩種光譜的研究，能夠獲得掃描范圍5keV-12keV，分辨率優于1eV的譜線。
RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀，將信號探測、掃描控制、數據顯示高度集成化，使用前只需簡單的參數設置、校準確認，即可方便進行研究試驗。
RLK900高分辨率XAFS/XES光譜儀，作為一種目前國際型的儀器，為各種材料研究分析拓展手段，用戶能夠在實驗室就能隨時開展研究，而不再受到條件限制。可廣泛應用于各種材料研究分析領域，包括納米材料、半導體材料、催化材料、生物材料、特種材料、礦產分析等。將成為材料研究必選設備。
v 產品特點(Features)
? 新原理新構造：居于新原理和新構造的X-ray光譜儀；
? 高分辨率： 采用的、的SBCA晶體作為核心器件，實現X射線單色掃描，分辨率達到1eV；
? 高品質能譜曲線：與同步輻射相當品質的能譜曲線；
? 試驗室儀器： 在試驗室就可完成XAFS/XES的研究，不再受到條件限制；
? 高集成性： 儀器集成探測、控制、分析，軟件運行于Windows操作系統；
? 應用面廣： 納米材料、半導體材料、催化材料、生物材料、特種材料、礦產分析等各種材料研
究分析領域
v 技術指標(Specification)
型號Model | RLK900 高分辨率XAFS/XES光譜儀 |
原理Principle | SBCA晶體、Roland圓、X-ray單色掃描 |
能量范圍 Energy Range | 5KeV-12KeV |
能量分辨率 Energy Resolution | 0.5-1.5eV |
工作模式 Working Mode | XAS/XES |
布拉格角范圍 Bragg Angle Range | 65°-85° |
X射線源 X-ray Tube | 10W（Max）50KV@200uA(X 光點直徑～0.5mm) |
光學系統 Optics System | SBCA單色分光、Roland圓Bragg掃描(Rolａnd 直徑500mm) |
探測器Detector | 半導體電制冷SDD |
通訊接口 Communication interface | RS-232 |
工作電壓 Power Supply | 220VAC |
工作溫度 Temperature | -10℃ ~ +50℃ |
外形尺寸Dimension | 1200(L)*1200(W)*1100(H) |
重量Weight | 350Kg |
軟件Software | RLK900專用軟件(WindowsXP/Windows 7) |
