全反射X射線熒光（TXRF）分析技術是近年來才發展起來的多元素同時分析技術。TXRF利用全反射技術，使樣品熒光的雜散本底比X熒光能量色散譜儀（EXRF）本底降低約四個量級，從而大大提高了能量分辨率和靈敏度，避免了XRF測量中通常遇到的本底增強或減弱效應；同時TXRF技術又繼承了EXRF方法的*性，成為一種不可替代的全新的元素分析方法。該技術被譽為在分析領域是有競爭力的分析手段、在原子譜儀領域內處于地位。

    在X熒光譜儀范圍內，與波長色散譜儀（RF）方法比較，由于TXRF分析技術用樣量很少，也不需要制作樣品的煩瑣過程，又沒有本底增強或減弱效應，不需要每次對不同的基體做不同的基體校準曲線。另外由于使用內標法，對環境溫度等要求很低。因而在簡便性、經濟性、用樣量少等方面，都比RF方法有明顯的*性。

    TXRF技術可以對從氧到鈾的所有元素進行分析，一次可以對近30種元素進行同時分析，這是原子吸收譜儀中的ETAAS和FAAS方法難以做到的。與質譜儀中的ICP-MS和GDMS以及中子活化分析（NAA）等方法相比較，TXRF分析方法在快速、簡便、經濟、多元素同時分析、用樣量少、檢出限低、定量性好等方面有著綜合優勢。

    我們開發的TXRF分析技術于1995年通過了省部級專家鑒定，認定“其主要技術指標處于國內，達到了*水平”。