光譜元素分析系統(tǒng)

主要特點(diǎn)
J200具有LA和LIBS雙系統(tǒng)測(cè)量能力，可以單獨(dú)運(yùn)行LA 或LIBS，或者同時(shí)運(yùn)行LA- LIBS復(fù)合系統(tǒng)。激光fs 或ns可選。
樣品自動(dòng)對(duì)焦、高度自動(dòng)調(diào)整、光斑大小調(diào)節(jié)。
可對(duì)固、液、氣樣品進(jìn)行全元素LIBS快速檢測(cè)，同時(shí)可將固體樣品的剝蝕顆粒或者液體樣品直接送入ICP-MS系統(tǒng)，實(shí)現(xiàn)ppb級(jí)精確分析。
可用于分析元素周期表中的所有元素。
ASI數(shù)據(jù)分析軟件可在一個(gè)數(shù)據(jù)分析平臺(tái)進(jìn)行，分析LIBS和LA數(shù)據(jù)；可進(jìn)行快速映射功能。

光譜元素分析系統(tǒng)應(yīng)用領(lǐng)域

復(fù)雜樣本的定性和定量分析
制造質(zhì)量控制:制藥、生物技術(shù)、電子、太陽(yáng)能、薄膜等
污染控制
土壤、植物和礦物分析
玻璃、油漆和其他痕跡證據(jù)的法醫(yī)分析
材料來(lái)源確定
學(xué)術(shù)界、政府和商業(yè)企業(yè)研究和實(shí)驗(yàn)室分析

性能指標(biāo)

激光系統(tǒng)

大能量

25mJ@ 266nm；能量輸出 0-*可調(diào)

重現(xiàn)率

20Hz，脈寬<6ns(FWHM)，DI 水冷卻系統(tǒng)

能量控制

光學(xué)衰減連續(xù)可變

光斑大小控制

35-250 微米可調(diào)(到達(dá)樣品表面的燒蝕光斑直徑)

激光光閘

自動(dòng)雙光閘，穩(wěn)定控制激光能量和 LIBS 信號(hào)測(cè)量

激光安全

I 級(jí)，樣品放置區(qū)域有濾光器，有激光鎖定保護(hù)

檢測(cè)器系統(tǒng)

譜寬190-1040 nm

測(cè)量過(guò)程不不受環(huán)境溫度變化的影響

分辨率λ/Δλ高達(dá) 6000

光譜精度優(yōu)于±0.05nm

雜散光抑制

探測(cè)器門(mén)控

門(mén)延時(shí)為0.5ns-1ms

分辨率 0.5 ns

樣品平臺(tái)系統(tǒng)

全自動(dòng) XYZ 行程

XY 行程 100mmx100mm，Z 行程 35mm

XY 行程分辨率 0.2um，Z 行程分辨率 0.2um

XY 行程重現(xiàn)率 0.2um，Z 行程重現(xiàn)率 0.2um

速度 0.001-20 mm/s

氣壓可控

樣品放置區(qū)域有濾光器，有激光鎖定保護(hù)功能

含高效空氣顆粒清潔器

具備專(zhuān)配 670 納米激光協(xié)助樣品高度自動(dòng)調(diào)整功能

雙 CMOS 相機(jī)，廣角用于定位采樣區(qū)域，高倍成像用于觀察某一特定區(qū)域。并可在電腦屏幕上實(shí)時(shí)觀察樣品燒蝕過(guò)程

樣品池-可充氦氣或氬氣惰性氣體保護(hù);鋰電池樣品需要保持在無(wú)水，無(wú)氧的條件下進(jìn)行測(cè)量。測(cè)量碳，氮，氧，氫，氟等元素時(shí);樣品池需要保持在氦氣氣氛中。

操作軟件

激光自動(dòng)采樣設(shè)置

單點(diǎn)、網(wǎng)格、光柵狀、線(xiàn)性?huà)呙杌蛴脩?hù)自定義設(shè)置

數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)

包含譜線(xiàn)自動(dòng)識(shí)別功能、光譜處理功能、LIBS 的強(qiáng)度監(jiān)測(cè)、化學(xué)統(tǒng)計(jì)功能等

元素制圖及深度分析控制

包含84種元素的Trulibs?光譜數(shù)據(jù)庫(kù)和LIBS NIST 理論數(shù)據(jù)庫(kù)（涵蓋所有元素）

設(shè)置預(yù)脈沖個(gè)數(shù)用來(lái)清洗樣品表面污染物

高度自動(dòng)化的測(cè)量功能

元素特征線(xiàn)的自動(dòng)標(biāo)定、標(biāo)準(zhǔn)曲線(xiàn)建立（單變量和多變量校準(zhǔn)曲線(xiàn)）、主成分回歸功能可用于樣品分類(lèi)