電子半導體業用超純水設備要求較高，一般來說需要超純水，常見的電子半導體行業用超純水工藝有一下幾種：

    1、預處理－反滲透－水箱－陽床－陰床－混合床－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－精制混床－精密過濾器－用水對象 

    2、預處理－一級反滲透－加藥機( PH調節)－中間水箱－第二級反滲透－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5 μ m精密過濾器－用水對象 

    3、預處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－0.2或0.5 μ m精密過濾器－用水對象

    4、 預處理--反滲透--中間水箱--水泵--EDI裝置--純化水箱--純水泵--紫外線殺菌器--精制拋光混床---TOC分解器－0.2或0.5 μ m精密過濾器－用水對象

    注：1,2屬于比較常見的傳統工藝，3,4采用EDI+精混工藝，水質更為穩定，是比較*的超純水工藝，但造價相對價高。

   東莞玖特針對電子半導體行業的用水要求設計的超純水系列，出水水質符合我國電子工業部電子級水質技術標準，電子工業部高純水水質試行標準，美國ASTM純水水質標準，美國半導體工業用純水指標，日本集成電路水質標準。

  電子半導體業用超純水設備系統工藝流程

    預處理--反滲透--中間水箱--水泵--EDI裝置--純化水箱--純水泵--紫外線殺菌器--精制拋光混床---TOC分解器－0.5μ m精密過濾器－用水點

   電子半導體超純處理設備功能簡介

   預處理（多介質+活性炭過濾器）：多介質過濾器用以填充石英砂、無煙煤和錳砂等濾料。其作用主要是降低水濁度，并且可以去除水中的大量細菌、病毒、有機物等。從而為后續的消毒工序創造了有利條件。錳砂對鐵、錳的去除*。

   活性炭具有大量的微孔和巨大的比表面積，具有*的物理吸附能力。能夠十分有效的吸附水中雜質，尤其是有機物和微生物。活性炭表面形成的含氧催化氧化和化學吸附的功能，可以去除一部分水中的金屬離子。活性炭對水中尚存的余氯有*的吸附作用，以保護下游的不銹鋼設備及管道表面和滿足后序水處理單元的入水要求。

   反滲透：通過RO膜有效地去除水中的帶電離子、無機物、膠體微粒、細菌及有機物質，高效脫鹽以達到生產純水之目的。

   EDI：又稱連續電除鹽技術，是通過陽陰離子膜對陽陰離子的選擇透過作用以及離子交換樹脂對水中離子的交換作用，在電場的作用下實現水中離子的定向遷移，從而達到水的深度凈化除鹽，并通過水電解產生的氫離子和氫氧根離子對裝填樹脂進行連續再生。

   精混：裝置羅門哈斯拋光樹脂，進一步提高水質（純水經過DEI后可達16兆，經過精混后可達18兆以上）

   TOC分解器：濾除紫外線不能除盡的一般細菌、大腸菌、病毒，氧化水中有機質，進一步凈化水質。

   精密過濾器：精密過濾器又稱保安過濾器，其作用在于濾除水中0.2um以上的微粒和細菌，實現高精度過濾

   系統優點：玖特機械設計的此套超純水設備采用新的超純水制作工藝，出水水質*符合電子半導體行業的用水要求；全不銹鋼材質，美觀耐用；全程自動控制系統，可降低人為操作失誤帶來的設備損壞；填充羅門哈斯樹脂，免去再生工序；所用核心部件均為業內，可延長設備使用壽命；耗材更換周期長，降低運行費用；設備設計占地面積小，操作方面。

   備注：東莞玖特設計的超純水系列除用于電子半導體行業外，亦可用于輕紡、化工、醫藥、光學光電等需要超純水的領域；可以根據您的出水量定制不同型號的超純水，更多詳情盡可來電垂詢。