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納米粉體的分散是基礎研究領域和工業技術部門普遍遇到的課題，其應用日益廣泛，如化工、醫藥、涂料、材料、食品等。分散技術不僅是提高產品質量和性能及提高工藝效率*，而且是十分重要的技術手段。

但是由于納米粉體粒度小，極易產生自發凝并，表現出強烈的聚團特性，不論在空氣中還是在液相中均易生成粒徑較大的二次粉體，聚團的結果導致納米粉體材料性能的嚴重劣化。另一方面，在復合材料的制備過程中，由于納米粉體的這種強烈團聚特性和它與復合基體材料的極性差異，納米粉體很難均勻地分散在基體材料中形成均質復合材料，是復合材料的性能難以達到人們預期的效果。            
   
所以為了解決這一問題，各種類型的分散設備應運而生，粉體的分散、混合與均化在粉體技術中有三個目的。其一是使團聚粉體的碎解和分散，盡力使團聚粉體達到單粉體分散；其二是在粉體制備過程中由于各部分或前后生產的產品的成分或粒度不均勻，而在使用時需要性能均一的粉體材料，為了消除各部分性能上的差異，需要對粉體材料進行分散、混合與均化處理；其三是，有些粉體材料需要進行改性處理，為了保證改性處理的均一性，也需要進行分散、混合與均化處理。

SGN膠體磨GM2000系列特別適合于膠體溶液、納米懸浮液和乳液的生產。除了高轉速和靈活可調的定轉子間隙外，GM2000在摩擦狀態下工作，也就被稱做濕磨。在錐形轉子和定子之間有一個寬的入口間隙和窄的出口間隙，在工作中，分散頭偏心運轉使溶液出現渦流，因此可以達到更好的研磨分散的效果。

              
SGN膠體磨結構：

三道磨碎區：一級為粗磨碎區，二級為細磨碎區，三級為超微磨碎區。

我們的磨頭的結構：溝槽的結構式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下，而他們的斜齒的每個磨頭的溝槽深度一樣，流道體積是一樣大，這樣形成了本質的區別。我們可以保證物料從上往下一直在進行研磨，而他們只能在一級磨頭到另外一級磨頭形成研磨效果。

GM2000系列高剪切膠體的特點：

1、定轉子被制成圓椎形，具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。

2、齒列的深度：從開始的2.7mm 到末端的0.7mm，范圍比較大，范圍越大，處理的物料顆粒大小越廣。

3、溝槽的結構式斜齒，每個磨頭的溝槽深度不一樣，并且斜齒的流道的體積從上往下是從大到下。

GM2000系列納米粉體膠體磨設備選型表

注：流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，同事流量可以被調節到zui大允許量的10% 

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