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AEG

• 作為擁有36年以上歷史的直流電源產品*企業，AE 為成千上萬的客戶提供服務，通過下列優勢、解決客戶復雜的工藝問題，為客戶創造價值：
• 高產量
• 靶材使用壽命的延長，利用率提高
• 系統正常運行時間的延長
• 應用支持人員
• 支持能力
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  AE 的直流電源產品主要通過物理氣相沉積市場上主要使用的物理氣象沉積工藝——合金濺射以及與有反應氣體參與的反應濺射，AE電源廣泛應用于以下制造市場，包括：
   
• 導體（銅、鋁、鉭、鈦以及更新的異類材料）
• 板顯示器（薄膜晶體管、彩色濾光片、有機 LED）
• 據存儲（光存儲、磁存儲以及磁光存儲相結合）
• 陽能光伏電池（透明導電氧化物和硅沉積）
• 筑玻璃
• 進產品應用（用于光學裝置、工具涂層、塑料等的薄膜）
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• Litmas® RPS 1501和3001遠程等離子源平臺
• Litmas® RPS 是采用高傳導、低表面面積結構的*整合遠程感應式等離子源和供電系統。非常適合為晶圓預清洗、光致抗蝕劑剝離和原子層沉積 (ALD) 等工藝提供反應氣體。此外，其大功率密度和高傳導性使其成為后處理廢氣治理的理想平臺。
• Litmas RPS 可在不到3毫秒的時間內提供高達3 kW 的穩定射頻功率，從而能夠實現90 nm 和300 nm制程的快速變化。
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• Litmas® RPS 前極管道 PFC 治理
• Litmas® RPS 系統是一種前極管道治理解決方案，可減少半導體制程的變暖影響。這個高性能的線性感應式等離子源*整合了2 MHz 電源和匹配電路。其在 CVD、蝕刻和灰化應用中的阻抗使用范圍很廣。
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• Xstream® 遠程等離子源
• 高效 Xstream® 遠程等離子源平臺產生來自穩定的原料氣體的中性活性種，用于表面改性、腔室清洗、薄膜蝕刻以及等離子輔助沉積。
  
  安裝在工藝腔室外的 Xstream 平臺整合了遠程等離子源、6 kW 或8 kW 的高效電源以及獲得的固態主動式匹配網絡。該網絡在一個腔室清洗源上擁有寬的商業化阻抗運行范圍。Xstream 遠程等離子源讓工藝工程師擁有的反應氣體工藝靈活性，從而提高了系統吞吐量，優化了昂貴資源的使用。
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• AE Xstream 不允許在美國或歐洲銷售。 

AEG AM 56Z BA 4

AEG AM 56Z BA 4

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