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光化學離子反應除臭設備描述

      一、廢氣處理利用高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體物質分子鍵，裂解惡臭氣體物質如：氨、甲硫氫、二硫化碳和，硫化物H2S、VOC類，苯的分子鍵，使呈游離狀態的污染物原子與臭氧氧化聚合成小分子無害或低害物質，如CO2、H2O等。

　　二、利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而生成臭氧；臭氧與呈游離狀態污染物質原子聚合，生成新的、無害或低害物質，如CO2、H2O等，同時，臭氧對有機物具有*的氧化作用，對惡臭氣體及其它刺激性異味有清除效果。

　　三、惡臭氣體（工業廢氣）利用排風設備輸入到本UV光解凈化設備后，凈化設備運用高能UV紫外線光束及臭氧對惡臭氣體進行協同裂解、氧化反應，使惡臭氣體物質其降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳，再通過排風管道排出室外。

      四、利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵，破壞細菌的核酸（DNA），再通過臭氧進行氧化反應，達到脫臭及殺滅細菌的目的。

　　五、適用范圍：煉油廠、橡膠廠、化工廠、制藥廠、污水處理廠、垃圾轉運站等惡臭氣體的脫臭凈化處理。

光化學離子反應除臭設備性能綜述

     一、高效除惡臭：能高效去除揮發性有機物（VOC）、無機物、、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率可達99.9%以上，脫臭效果大大超過國家1993年頒布的惡臭污染物排放標準（GB14554-93）。

　　二、無需添加任何物質：只需要設置相應的排風管道和排風動力，使惡臭氣體通過本設備進行脫臭分解凈化，無需添加任何物質參與化學反應。

　　三、適應性強：可適應高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質的脫臭凈化處理，可每天24小時連續工作，運行穩定可靠。

　　四、運行成本低：本設備無任何機械動作，無噪音，無需專人管理和日常維護，只需作定期檢查，本設備能耗低，（每處理1000立方米/小時，僅耗電約0.1度電能），設備風阻極低＜30pa，可節約大量排風動力能耗。

　　五、無需預處理：惡臭氣體無需進行特殊的預處理，如加溫、加濕等，設備工作環境溫度在攝氏-30o−95o之間，濕度在40%−98%之間均可正常工作。＜1平方米/處理10000m3/h風量。

　　六、優質防腐材料制造：防火、防腐蝕性能高，性能穩定，使用壽命長。