半導體工業超純水設備工藝流程： 

半導體工業超純水設備新工藝一: 

原水(設有壓力保護)→增壓泵→砂過濾器→炭過濾器→軟化器(根據地區不合選用)→緊密過濾器(或稱保安過濾器)→兩頭水箱→RO前水泵→緊密過濾器(或稱保安過濾器)→RO高壓泵→RO反滲透系統→RO水箱→RO水增壓泵→混床→終端緊密過濾→UV紫外線殺菌→設備用水(水質可以達到15MΩ.cm以上即0.066μs/ ㎝以下，25 ℃)工業(又稱超純水機、超純水設備等)/半導體用超純去離子水(指除去了呈離子方式雜質后的純水) 

設備新工藝二: 

原水(設有壓力保護)→增壓泵(一用一備)→砂過濾器→炭過濾器→軟化器(根據地區不合選用)→緊密過濾器(或稱保安過濾器)→兩頭水箱→RO前水泵→緊密過濾器(或稱保安過濾器)→RO高壓泵→RO反滲透系統→RO水箱→RO水增壓泵→普通混床→拋光混床→終端緊密過濾→UV紫外線殺菌→設備用水(水質可以達到18MΩ.cm以上即0.056μs/ ㎝以下，25 ℃)  

應用領域: 

　　電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗; 

　　電子管生產、顯像管和陰極射線管生產配料用純水; 

　　黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水; 

　　生產液晶顯示器的屏面需用純水清洗和用純水配液; 

　　晶體管生產中純水主要用于清洗硅片; 

　　集成電路生產中高純水清洗硅片; 

　　半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路用純水; 

　　半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗; 

　　高品質顯像管、螢光粉生產; 

　　汽車、家電表面拋光處理