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CMSD2000納米金屬氧化物研磨分散機
參考價: 面議
具體成交價以合同協議為準
  • CMSD2000 產品型號
  • 品牌
  • 生產商 廠商性質
  • 上海市 所在地

訪問次數:255更新時間:2019-06-18 18:45:45

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產品簡介
納米金屬氧化物研磨分散機,納米金屬研磨分散機是的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。
產品介紹

納米金屬氧化物研磨分散機,納米金屬研磨分散機是的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨。定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。 

 

納米金屬氧化物常見有目前工業化生產的主要有納米氧化鋁,納米氧化鋅,納米氧化鈰,納米氧化鐵,納米氧化鉍,納料ATO  ITO AZO  GTO納米* ,納米二氧化硅等產品

 

納米材料團聚*納米氧化物極易產生自身的團聚,使得應有的性能難以充分發揮。此外,納米氧化物的諸多奇異性能能否得到充分發揮,還取決于zui大限度降低粉體與介質間的表面張力。因此,納米氧化物粉體必須均勻分散,充分打開其團聚體,才能發揮其應有的奇異性能。 

 

粉體(含納米材料)的分散主要是靠剪切力的作用。納米材料在漿料體系中的分散,一般是采用下述分散方法來達到分散效果。 

研磨分散:利用三輥機或多輥機的輥與輥速度的不同,將研磨料投入加料輥(后輥)和中輥之間的加料溝,二輥以不同速度內向旋轉,部分研磨料進入加料縫并受到強大的剪切作用,通過加料縫,研磨料被分為兩部分,一部分附加在加料輥上回到加料溝,另一部分由中輥帶到中輥和前輥之間的刮漆縫,在此又一次受到更強大的剪切力作用。經過刮漆縫,研磨料又分成兩部分,一部分由前輥帶到處,落入刮漆盤,另一部分再回到加料溝,如此經幾次循環,可達到分散的目的。但用三輥機或多輥機進行處理效率低,能耗高,滿足不了大生產的需求。 

 球磨分散: 通過球磨機中磨球之間及磨球與缸體間相互滾撞作用,使接觸鋼球的粉體粒子被撞碎或磨碎,同時使混合物在球的空隙內受到高度湍動混合作用而被均勻地分散。 

 砂磨分散: 砂磨是球磨的外延。只不過研磨介質是用微細的珠或砂。砂磨機可連續進料,納米粉體的預混合漿通過圓筒時,在筒中受到激烈攪拌的砂粒所給予的猛烈的撞擊和剪切作用,使得納米氧化物能很好地分散在涂料中,分散后的漿離開砂粒研磨區通過出口篩,溢流排出,出口篩可擋住砂粒,并使其回到筒中。通過球磨機和砂磨機分散能取得較好的分散效果及物料細度,但球磨機和砂磨機同樣無法避免處理效率低,能耗高的缺點。 

 高剪切分散機: 高剪切分散機的核心部件是定子/轉子結構,轉子高速旋轉所產生的高切線速度和高頻機械效應帶來強勁的動能,使物料在定、轉子狹窄的間隙中受到強烈的機械剪切、液力剪切、離心擠壓、液層磨擦、撞擊撕裂和湍流等綜合作用,使不相溶的固相、液相、氣相在相應成熟工藝的條件下,瞬間均勻精細地分散,經過高頻的循環往復,zui終得到穩定的高品質產品。與三輥機、球磨機、砂磨機相比,高剪切分散機具有效率高、能耗低等顯著優點,是分散工藝的*。 
 

納米材料研磨分散機是

是IKN(上海)公司經過研究剛剛研發出來的一款新型產品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質一步到位的物料。我們將三級高剪切均質乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經過膠體磨細化物料,然后再經過乳化機將物料分散乳化均質。膠體磨可根據物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)

1  線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結果就是通常所說的濕磨

②   定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

③   定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離

④   在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

⑤   高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業的多種要求。

納米金屬氧化物研磨分散機的型號

研磨分散機

流量*

輸出

線速度

功率

入口/出口連接

類型

l/h

rpm

m/s

kW

 

CMSD 2000/4

300

9,000

23

2.2

DN25/DN15

CMSD 2000/5

1000

6,000

23

7.5

DN40/DN32

CMSD 2000/10

3000

4,200

23

22

DN80/DN65

CMSD 2000/20

8000

2,850

23

37

DN80/DN65

CMSD 2000/30

20000

1,420

23

55

DN150/DN125

CMSD2000/50

60000

1,100

23

110

DN200/DN150

*流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,同時流量可以被調節到zui大允許量的10%。

1 表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。

,德國IKN制造 上海依肯機械設備有限公司

 



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