光催化氧化技術原理

@利用特制的高能UV紫外線光束照射惡臭氣體，裂解惡臭氣體如：氨，三家胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯，硫化物H2S/、VOC類，苯、甲苯、二甲苯的分子鍵。陜西保溫材料廠車間廢氣處理設備專家

@利用高臭氧分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜帶的正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產生臭氧，使呈游離狀態的污染物分子與臭氧氧化結合成小分子無害或低害的化合物。如CO2、H2O等。

UV+O2→O-+O*(活性氧）O+02→O3(臭氧）

@利用特制的催化劑進行氧化還原反應；運用高能UV紫外線光束、臭氧及催化劑對惡臭氣體進行協同分解反應，使惡臭氣體物質降解轉化成低分子化合物、水和二氧化碳，*達到脫臭及殺滅細菌的目的。陜西保溫材料廠車間廢氣處理設備專家

@光催化氧化是在外界可見光的作用下發生催化作用，以半導體為催化劑，以光為能量，將有機物降解為CO2和H2O及其他無毒無害成分。在光催化氧化反應中，通過紫外光照射在納米TIO2催化劑上，納米TIO2催化劑細說光能產生電子躍進和空穴躍進，經過進一步的結合產生電子空穴時，與廢氣表面啊吸附的水分和氧氣反應生成氧化性很活潑的自由基和超氧離子自由基。

@在紫外線的照射下使污染物氧化分解；后者又稱光催化氧化，一般可分為均相和非均相催化兩種類型。均相光催化降解中常見的以Fe2+或Fe3+及H2O2為介質，通過photo-Fenton反應產生•H0，使污染物得到降解，非均相催化降解中較常見的是在污染體系中投加一定量的光敏半導體材料，同時結合一定量的光輻射，使光敏半導體在光的照射下激發產生電子-空穴對，吸附在半導體上的溶解氧、水分子等與電子-空穴作用，產生•H0等氧化性*的自由基，再通過與污染物之間的羥基加和、取代、電子轉移等使污染物全部或接近全部礦化。

光催化氧化技術特點

@高效除惡臭：能高效去除揮發性有機物（VOC)、無機物、硫化氫、氨氣、硫醇類等主要污染物，以及各種惡臭味，脫臭效率可達99%以上。

@無需添加任何物質：只需要設置相應的排風管道和排風動力，使惡臭氣體通過本設備進行脫氧分解凈化，無需添加任何物質參與化學反應。

@適用性強：可適應高濃度，大氣量，不同惡臭氣體物質的脫臭凈化處理，可每天24小時連續工作，運行穩定可靠。

@運行成本低，沒處理1000立方米每小時，僅耗電0.1度電能，設備風阻極低小于30pa，可節約大量排風動力能耗。

@設備占地面積小，性能穩定，使用壽命長。