半導體行業廢氣治理設備江蘇等離子+UV光解一體機廢氣除臭凈化器
一、半導體制造行業
【行業基本情況】：
半導體產品可大致劃分為三大類：分立器件、集成電路與光電組件，其中集成電路就占了半導體近九成的比重，可謂半導體產業的重心所在。2000年以來，中國集成電路產業處于高速成*。預計2008年-2010年這3年間，中國集成電路產業整體銷售收入的年均復合增長率將達到23.6%。到2010年，中國集成電路產業銷售收入將達到約2500億元。預計2010年-2015年，我國將以年均近20%速度向前發展，產業規模達到約6000億元，屆時中國將成為世界重要電路制造基地之一。2007年，我國半導體企業總數達700家左右，其中IC設計業500多家，IC制造業30多家，封裝測試業100多家。IC制造業企業已相對集中，主要分布在上海、北京、江蘇、浙江等省市，長江三角洲地區成為中國集成電路重鎮。
【控制要求】：
半導體制造工藝中使用的清洗劑、顯影劑、光刻膠、蝕刻液等溶劑中含有大量有機物成分。在工藝過程中，這些有機溶劑大部分通過揮發成為廢氣排放。目前，有機廢氣排放處理措施采用大風量低濃度，其處理一般采用吸附濃縮技術、等離子光解技術、或UV光解技術等等。
【半導體制造行業廢氣處理工藝】：
半導體制造行業廢氣預處理設備（根據具體項目及廢氣源實際工況，可能涉及到粉塵去除、水氣分離、高溫降溫處理、油膏油脂去除、酸堿水霧去除等相應的預處理措施）等離子UV光解除臭廢氣凈化器高排。
半導體行業廢氣治理設備江蘇等離子+UV光解一體機廢氣除臭凈化器
等離子光解廢氣分解除臭凈化器
【工作原理】
本設備是等離子分解廢氣凈化器+UV光解除臭廢氣凈化器兩種設備的*結合，綜合采用了等離子廢氣凈化器和紫外光觸媒除臭廢氣凈化器兩種設備的優點組合而成，利用等離子分解技術和UV紫外光解技術相結合，對廢氣和臭氣進行高效協同凈化處理！
（1）廢氣和惡臭氣體進入集成設備后，經過UV紫外光束區時，被紫外光波高能高效率地照射，瞬間產生光解反應，打開廢氣和臭味污染物分子的化學鍵，破壞其分子結構和核酸；利用高能紫外光波分解空氣中的氧分子產生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合，進而產生臭氧，使呈游離狀態的污染物分子與臭氧氧化結合成小分子無害或低害的化合物。如CO2、H2O 等。 UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧)。
（2）廢氣和惡臭氣體經過等離子體電場區，在納秒級時間范圍內，等離子猛烈轟擊廢氣和臭味等污染物分子，產生裂變分解反應，產生高濃度、高強度、高能量的各種活性自由基、高能電子、高能離子等，同時產生大量臭氧、原子氧、生態氧等混合氣體，進行一系列復雜的分化裂解和氧化還原反應。
（3）UV紫外光解與等離子分解如此高效協同地產生一系列光解和分解反應，經過復合式多級凈化后從而達標排放！既能安全高效地凈化治理各種有害廢氣，又能高效干凈地去除各種惡臭味道。
