微區(qū)X射線熒光光譜儀M4 TORNADO

微區(qū)X射線熒光光譜分析技術(shù)是對不均勻樣品、不規(guī)則樣品、甚至小件樣品和包裹物進(jìn)行高靈敏度的、非破壞性的元素分析的*方法。

M4 TORNADO采用了全新的技術(shù)，為各種用戶提供了的分析性能和非常方便的操控性。
采用多導(dǎo)毛細(xì)管聚焦鏡，照射光斑zui小，空間分辨率zui高。
渦輪增速X-Y-Z樣品臺，借助放大倍數(shù)可變的攝像系統(tǒng)獲得高品質(zhì)的樣品影像，可在“飛行中”進(jìn)行元素分布分析。 
高強(qiáng)度的X射線光管與多導(dǎo)毛細(xì)管聚焦鏡相結(jié)合，確保在非常小的照射區(qū)域內(nèi)獲得非常高的激發(fā)強(qiáng)度。采用濾光片和可以同時(shí)使用的配有不同靶材的雙光管，可以根據(jù)不同的分析要求，優(yōu)化激發(fā)光譜。
使用XFlash®探測器超高速地獲取樣品圖譜，另外，使用多個(gè)探測器可以進(jìn)一步提高測量速度。
采用無標(biāo)樣分析法精確定量分析塊狀樣品，精確分析多層膜樣品。
可抽真空的樣品室配有自動門，大尺寸的樣品室可以放置各種尺寸的樣品。通過兩個(gè)放大倍數(shù)可變的攝像系統(tǒng)觀察樣品（整體觀察和分析區(qū)域的細(xì)致觀察），便捷進(jìn)樣功能和自動對焦功能可以進(jìn)行快速而精確的定位。通過用戶編輯的X-Y-Z樣品臺運(yùn)行程序可實(shí)現(xiàn)重復(fù)測量。

行業(yè)應(yīng)用：

1.地球科學(xué)（巖心、巖石、沉淀物、微體化石、年輪等多元素分布成像）

2.司法鑒定、法醫(yī)及痕量分析（對衣物上的彈孔進(jìn)行射擊殘留物GSR分析）

3.藝術(shù)與考古(對文物進(jìn)行顏料、色料的成分分析，修復(fù)文物)

4.質(zhì)量控制與故障分析儀（電子和電子部件元素分析，ROHS分析）
5.發(fā)動機(jī)部件、電機(jī)/潤滑油（識別電機(jī)/潤滑油中的發(fā)動機(jī)磨損產(chǎn)物）
6.生命科學(xué)（檢查樹木橫斷面/葉子/樹根年輪）
7.材料科學(xué)（鋼材腐蝕檢驗(yàn)）
8.環(huán)境科學(xué)(土壤重金屬、污水污泥重金屬分析、空氣和城市廢物)
9.過濾器上的薄膜（空氣濾膜）

技術(shù)參數(shù)：

樣品類型：固體、顆粒、液體、多層膜
樣品室尺寸：W×D×H：600×350×260mm
樣品臺尺寸：W×D：330×170mm
測量氣氛：大氣/真空，在100秒內(nèi)準(zhǔn)備就緒
樣品移動：zui大移動范圍 W×D×H：270×240×120mm
移動速度：渦輪增速樣品臺zui大移動速度可達(dá)100mm/s
激發(fā)：配多導(dǎo)毛細(xì)管聚焦鏡的高強(qiáng)度X射線光管 
選項(xiàng)：可同時(shí)使用不同靶材的雙光管
X射線光管參數(shù)：
靶材：Rh，可選靶材：Mo，Ag，Cu，W
電壓：50kV,800μA
光斑大小：小于30μm（對于Mo-K）
濾光片：根據(jù)用戶要求，zui多6塊濾光片
探測器：Flash®硅漂移探測器
選項(xiàng)：可zui多同時(shí)使用3個(gè)探測器
探測器參數(shù)：
有效面積：10mm2，選項(xiàng)：30mm2
能量分辨率：計(jì)數(shù)率250,000cps時(shí)分別優(yōu)于125eV、135eV
儀器控制：*的PC機(jī)，Windows XP或Vista操作系統(tǒng)
儀器控制功能：光管參數(shù)、濾光片、光學(xué)顯微鏡、樣品照明和樣品定位的全面控制
光譜評估：譜峰識別、人工和自動背景校正、峰面積計(jì)算、對于塊狀樣品和多層膜樣品基于標(biāo)樣和無標(biāo)樣模式的定量分析 
分布分析：“飛行中”測量模式，HyperMap軟件功能
結(jié)果顯示：定量結(jié)果、統(tǒng)計(jì)計(jì)算、元素分布（線掃描、面分布）
電源要求：110-240V（1P），50/60Hz
尺寸（寬×深×高） 815×680×580mm，130kg
質(zhì)量和安全：DIN EN ISO 9001:2000認(rèn)證, CE認(rèn)證
*輻射防護(hù)系統(tǒng)；輻射劑量＜1μSv/h

馬上：，info@boyuesh.com