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Photomask clean 清洗機

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更新時間：2022-10-17 13:10:04瀏覽次數：253次

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產品簡介

Photomask clean 清洗機

詳細介紹

適應方形基片尺寸：8×8inch基片用途：可用于掩膜版表面污染物的清除。
清洗方式：是由電機通過夾持機構帶動掩膜板做離心式旋轉。
配合常壓水清洗
高壓水清洗
兆聲波清洗
毛刷（Brush）清洗
有機溶劑清洗等方式作用：其中0.5微米以上顆粒的去除率接近99%。
再小于的顆粒去除率可根據客戶要求提供技術指標。

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