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光譜廠家金義博自主研發(fā)生產(chǎn)M2型全譜直讀光譜儀

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更新時(shí)間：2023-01-27 17:04:13瀏覽次數(shù)：229次

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金義博儀器科技（東莞）有限公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

M2型全譜直讀光譜儀產(chǎn)品簡(jiǎn)介：全新立式全譜光譜采用標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)計(jì)和制造工藝技術(shù)，采用全數(shù)字技術(shù)，替代龐大的光電倍增管（ＰＭＴ）模擬技術(shù)，光譜儀技術(shù)同步，采用真空光學(xué)室設(shè)計(jì)及全數(shù)字激發(fā)光源、ＣＣＤ檢測(cè)器，高速數(shù)據(jù)讀出系統(tǒng)，使儀器具有高的性能、低的檢出線、長(zhǎng)期的穩(wěn)定性和重復(fù)性。適用于金屬制造業(yè)、加工業(yè)及金屬冶煉業(yè)用于質(zhì)量監(jiān)控、材料牌號(hào)識(shí)別、材料研究和開發(fā)的主要設(shè)備之一。……

詳細(xì)介紹

M2型全譜直讀光譜儀

M系列全譜直讀光譜儀采用標(biāo)準(zhǔn)的設(shè)計(jì)和制造工藝技術(shù)，全數(shù)字化及互聯(lián)網(wǎng)技術(shù)結(jié)合，運(yùn)用高分辯率CMOS檢測(cè)器，精密設(shè)計(jì)的氬氣吹掃系統(tǒng)，使儀器具有高性能、極低的成本、以及竟?fàn)幜Φ膬r(jià)格。

M2可應(yīng)用于多種材料的分析。

01 小巧、輕便、精致、可靠的儀器結(jié)構(gòu)，具有同類型直讀光譜儀異的分析數(shù)據(jù)。

02 超小設(shè)計(jì)的光學(xué)室結(jié)構(gòu)及優(yōu)化設(shè)計(jì)的氬氣吹掃系統(tǒng)，保證紫外區(qū)元素譜線的透過(guò)率。

03 應(yīng)用高分辯多CMOS讀出系統(tǒng)，更低的暗電流、更好的檢出限、更高的穩(wěn)定性、更強(qiáng)的靈敏度。

04 全數(shù)字化的智能復(fù)合光源DDD技術(shù)，充分滿足不同基體、不同樣品以及不同元素的激發(fā)要求。

05 FPGA數(shù)據(jù)采集及以太網(wǎng)網(wǎng)絡(luò)數(shù)據(jù)傳輸技術(shù)，保證數(shù)據(jù)一致性及數(shù)據(jù)傳輸速率。

06 內(nèi)置工廠校正曲線及曲線擴(kuò)展技術(shù)，滿足不同材料的技術(shù)要求。

07互聯(lián)網(wǎng)網(wǎng)絡(luò)技術(shù)及數(shù)據(jù)云儲(chǔ)存。

08 操作簡(jiǎn)單、維護(hù)成本低、質(zhì)量可靠。

09 竟?fàn)幜Φ膬r(jià)格。

精密設(shè)計(jì)的氬氣吹掃系統(tǒng)

光室密封性強(qiáng)，可保持內(nèi)部氬氣長(zhǎng)期純凈。

光室空間優(yōu)化設(shè)計(jì)，降低氬氣消耗，有效節(jié)約產(chǎn)生成本。

低氬氣吹掃系統(tǒng)，確保光室UV波段測(cè)量環(huán)境。

光室充氬免除復(fù)雜的真空系統(tǒng)。

高分辯率CMOS檢測(cè)器實(shí)現(xiàn)全譜分析

譜線覆蓋了所有的重要元素，滿足所有基體和材料的分析。

高靈敏的紫外區(qū)檢測(cè)，對(duì)N的分析檢測(cè)更準(zhǔn)確。

可有效選擇元素靈敏線，保證分析的準(zhǔn)確度。

多峰擬合技術(shù)，有效消除譜線干擾，實(shí)現(xiàn)精準(zhǔn)測(cè)量。

分析軟件功能強(qiáng)大

1) 基于Windows系統(tǒng)的多國(guó)語(yǔ)言的CCD全譜圖形化分析軟件，方便實(shí)用；

2) 管理的控制整個(gè)測(cè)量過(guò)程及為用戶提供強(qiáng)大的數(shù)據(jù)處理能力和測(cè)試報(bào)告輸出能力；

3) 儀器可配置多條工廠校正曲線及更多材質(zhì)分析及*解決方案；

4) 軟件實(shí)現(xiàn)全譜檢測(cè)、智能扣干擾、扣暗電流、背景和噪聲的算法，提高儀器的分析能力；

5) 完備的自動(dòng)系統(tǒng)診斷功能；

6) 完善的數(shù)據(jù)庫(kù)管理功能，可方便查詢、匯總數(shù)據(jù)；

7) 智能校正算法，保證儀器穩(wěn)定可靠；

8) 完備的譜線信息和干擾扣除算法，保證儀器分析更為精準(zhǔn)；

9) 適應(yīng)的Windows操作系統(tǒng)。

應(yīng)用領(lǐng)域

主要技術(shù)參數(shù)

項(xiàng)目	M2
檢測(cè)基體	單基體
光學(xué)系統(tǒng)	帕型-龍格結(jié)構(gòu)
光室結(jié)構(gòu)	充氬方式
波長(zhǎng)范圍	165-580nm
光柵焦距	150mm
光柵刻線	3600條/mm
探測(cè) 器	多CMOS檢測(cè)器
光源類型	可編程脈沖數(shù)字光源
儀器尺寸	643450270