產品概況
上市時間：2020年1月
1、雙光室，確保所有分析譜線都獲得分辨率。 SPECTROLAB S 配備兩套完整的光學系統。一個光室精確測量波長從120到240納米(nm);另一個光室，波長范圍從210到800納米(nm)。 兩個光室都采用*的CMOS檢測器，具備恒溫裝置和壓力補償功能
2、等離子發生器數字光源和點火板 可靠的新型高能LDMOS等離子發生器光源，為SPECTROLAB S 輸出超級穩定的火花放電，頻率1000 Hz。結果：最短的測量時間(例如：分析低合金鋼小于 20 秒)。該系統還允許特定應用的火花參數設置，以優化分析性能。
3、精密氬氣控制系統 SPECTROLAB S 采用全新程控流量。軟件根據分析程序精密設置氬氣流量。節約了氬氣消耗。氬氣閥體直接耦合到火花臺，無需管道連接。避免漏氣。
4、火花臺清理間隔大大延長 堅固的陶瓷內芯避免積塵粘附。流暢的氣路設計確保了最少的粉塵殘留(使得清理間隔時間延長了8倍);對于大樣品量輸出的全自動光譜儀系統尤為重要。
5、快速讀出系統 斯派克的GigE創新讀出系統確保海量數據的極速處理，從而支持的儀器性能表現。實現了的全光譜范圍譜圖記錄。
6、超低檢出限。SPECTROLAB S 采用的 CMOS+T技術，在關鍵元素的檢測限方面，超越光電倍增管技術的性能。通過配置參比通道，工作曲線可以獲得優化。可以快速定量分析ppm量級的高純金屬或合金中的痕量元素。
產品特點
作為電弧/火花創新技術的，40多年來，SPECTRO全心投入開發出的發射光譜儀。今天，斯派克公司引入CMOS探測器技術，改變了電弧/火花分析技術的走向及未來。在所有同類分析儀中，SPECTROLAB S所提供分析速度超出想象，元素檢測限低限，同時她也可以提供超長的正常運行時間和非常具有前瞻性的靈活性。
SPECTROLAB S 擁有世界上全新基于CMOS的探測器的記錄系統，該系統非常適合于金屬分析。從微量元素到多基體應用，它提供了極其快速、高度準確、異常靈活的技術選擇。
樣品的分析速度是儀器*性的重要標志，SPECTROLAB S的推出滿足了金屬分析市場對速度的需求。例如：當檢測低合金鋼時，它可以在20秒或更短的時間內提供高準確度的測量值!
從技術指標和實際使用效果看，SPECTROLAB S均是目前金屬冶煉廠適合的、高性能的光譜儀。對于金屬再加工生產商、汽車和航空航天制造商、以及成品和半成品、電子產品、半導體等制造商來說，她給出的解決方案同樣出色。
20秒內獲得高準確度的結果(例如：低合金鋼)
定期維護的工作量(火花臺清洗)減少8倍
元素在低合金鋼中平均檢測限改善2倍，元素在純鋁中的平均檢測限改善5倍
儀器的占地面積減少27%
單一標樣實現整個系統的標準化, 此項每天可節省30分鐘工作時間
