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上海桓球儀器設備有限公司
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奧林巴斯CIX100技術清潔度檢測系統：讓您的技術清潔度檢測更簡便組件與零部件的清潔對于生產工藝十分重要
奧林巴斯CIX100技術清潔度檢測系統：讓您的技術清潔度檢測更簡便
組件與零部件的清潔對于生產工藝十分重要。對于開發、制造、批量生產以及成品質量控制的所有流程，滿足對常見微觀尺寸污染物和異物顆粒的計數、分析和分類的高標準要求是非常重要的。由于顆粒污染物對于零部件的使用壽命存在直接影響，國際和國家指令對于確定重要機械部件顆粒物污染的方法和存檔要求均有表述。此前，使用殘留顆粒物的質量來描述殘留物特征。當前使用的標準對諸如顆粒物數量、顆粒物尺寸分布以及顆粒物特征等污染屬性提出了更詳細的信息要求。
奧林巴斯CIX100清潔度檢測系統專為滿足現代工業及國家和國際標準的清潔度要求而特別設計。
清潔度檢測的標準步驟：準備和檢測
(01:提取, 02:過濾, 03:稱重, 04:檢驗, 05:復審, 06:結果)
實現很高效率的直觀引導
 | 使用方便的專用工作流可大大減少用戶操作并確保數據可靠性-無關操作員的經驗水平。 · 用戶權限管理可對功能作出限制，通過限制功能避免操作員處理失誤 · 觸摸屏支持操作員高效操作處理 · 一鍵報告功能可直接進行數據存檔 · 通過檢測結果自動存儲和進行數據分享管理 |
快速實時分析
 | 創 新的一體式掃描解決方案讓完成掃描的速度是傳統調節檢偏鏡式檢測系統的兩倍。實時 顯示顆粒物的計數和篩選過程，并且配有便于修改檢測數據的強大易用型工具。 · 自動實時處理和分類2.5微米至42毫米污染物顆粒 · 通過的一體式掃描技術一次掃描完成反光和非放光物體的探測提高生產率 · 分析和檢測結果實時顯示，實現很短反應時間 · 支持兼容國際標準的檢測結果 |
高效率的數據評估
 | 功能強大且使用方便的工具支持檢測數據修改。支持所有國際標準確保很高靈活性。以節 省時間的方式清晰展示所有相關檢測結果。 · 各種顆粒物視圖的可視化，便于快速識別 · 顆粒物位置與縮略圖與其尺寸圖像鏈接的可靠保證 · 便于對檢測數據進行重新分類、審核修改以及重新計算 · 通過整體清潔度代碼、顆粒物和分類表的實時顯示縮短反應時間 · 通過在一個視圖內顯示全部檢測數據集實現全 面控制 |
報告創建
 | 一鍵報告功能可滿足國際標準規定的要求及原則。
· 通過客戶可修改的模板實現的智能可變性 · 支持各種輸出格式，實現很高靈活性 · 通過直接文件分享選項功能進行信息交流提高效率且節省時間 · 便于檢測結果長期評判的豐富數據存儲方案 |
1.可再現成像條件(相機蓋)
通過受保護的相機對齊避免意外錯位，實現尚佳可再現性。
2.創 新偏光方法(探測單元)
一次掃描即可探測反光（金屬）和非反光顆粒物。
3.經久耐用(載物臺/載物臺插件)
精 確可再現的定位以及改良的對焦驅動功能確保實現可再現的定位。載物臺插件可確保牢固的薄膜定位，并且配有用于集成校準工具的額外插件。
4.優良的光學性能（顯微鏡）
通過奧林巴斯UIS2物鏡和高分辨率相機等上等光學組件獲得分析用上乘圖像質量。
5.使用方便（軟件）
簡單易用的軟件采用直觀分步操作的工作流，引導用戶完成完整的檢測流程，并可很大限度降低操作員失誤。
6.高性能（工作站）
功能強大的工作站配有方便高效工作的觸摸屏顯示器。
| 可再現性和可重復性 | |
 | 奧林巴斯CIX100系統使用方便，即使不熟練的檢測人員也能夠獲得精 確可靠的數據。 預配置的硬件和專用系統解決方案可幫助確保您的設置能夠正確獲得精 確、可重復的檢測結果。 |
| 該圖表通過利用過程性能指數(Ppk)驗證測量穩定性和可重復性展示了奧林巴斯CIX100的精密性。在5X和10X倍率下測量同一樣品數次（10次）并提取按常規尺寸分類的顆粒物計數。該圖表展示了E等級(50-100µm)的Cpk和Ppk評估。 | |
| 的光學品質 | |
 | 奧林巴斯高品質UIS2物鏡可確保獲得上等測量和分析精度的尚佳光學性能。針對清潔度檢測優化的專用光源可保持均一一致的色溫。 |
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| 經過優化的可再現性 | |
 | 通過消除照明光程上的運動部件、很大限度實現功能自動化以及創建避免操作員失誤的直觀工作流，可再現性達到尚佳。 集成式校準載玻片有助于保持常規的系統校驗狀況。 |
| 集成式校準片有助于保持常規的系統校驗狀況。 | |
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| 安全設置 | |
 | 光路調整、電動物鏡轉換器以及相機均配有避免發生意外修改的防護蓋。 |
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