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窄帶濾光片 4.530um (檢測(cè)一氧化二氮 N2O)

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筱曉（上海）光子技術(shù)有限公司

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產(chǎn)品簡(jiǎn)介

本系列其它產(chǎn)品型號(hào)共8條名稱型號(hào)貨號(hào)描述窄帶濾光片5.330um(檢測(cè)一氧化氮NO)NBP-5330-190-25中心波長(zhǎng)：5330nm(+/-25nm)

詳細(xì)介紹

本系列其它產(chǎn)品型號(hào) 共8條

名稱	型號(hào)貨號(hào)	描述
窄帶濾光片 5.330um (檢測(cè)一氧化氮 NO)	NBP-5330-190-25	中心波長(zhǎng)：5330 nm (+/- 25nm)； FWHM：190 nm (+/- 25nm)；傳輸峰值：>75%；阻擋范圍：UV-20µm+；入射角：0°；基質(zhì)：直徑 25 mm 厚度 0.5 mm；表面質(zhì)量：劃痕小于 60-40
窄帶濾光片 4260nm (檢測(cè)二氧化碳檢測(cè) CO2)	NBP-4260-160-25	中心波長(zhǎng)：4260 nm (+/- 20nm)； FWHM：160 nm (+/- 21nm；傳輸峰值：>70%；阻擋范圍：UV – 20µm+；入射角：0°；基質(zhì)：直徑 25 mm，厚度 0.5 mm；表面質(zhì)量：劃痕小于 60-40
窄帶濾光片 3400nm (檢測(cè)一般碳?xì)浠衔餀z測(cè) CH)	NBP-3400-155-25	中心波長(zhǎng)：3400 nm (+/- 15nm)； FWHM：155 nm (+/- 15nm)；傳輸峰值：>75%；阻擋范圍：UV 20µm+；入射角：0°；基質(zhì)：直徑 25 mm 厚度 0.5 mm；表面質(zhì)量：劃痕小于 60-40；
窄帶濾光片 3349nm (乙烷檢測(cè)C2H6)	NBP-3349-70-25	中心波長(zhǎng)：3349 nm (+/- 15nm)； FWHM：70 nm (+/- 15nm)；傳輸峰值：>75%；阻擋范圍：UV 20µm+；入射角：0°；基質(zhì)：直徑 25 mm 厚度 0.5 mm；表面質(zhì)量：劃痕小于 60-40；
窄帶濾光片 3330nm (甲烷檢測(cè) CH4)	NBP-3330-150-25	中心波長(zhǎng)：3330 nm (+/- 15nm)； FWHM：150 nm (+/- 15nm)；傳輸峰值：>75%；阻擋范圍：UV 20µm+；入射角：0°；基質(zhì)：直徑 25 mm 厚度 0.5 mm；表面質(zhì)量：劃痕小于 60-40；
窄帶濾光片 3260nm (乙烯檢測(cè) C2H4)	NBP-3260-150-25	中心波長(zhǎng)：3260 nm (+/- 16nm)； FWHM：150 nm (+/- 17nm)；傳輸峰值：>75%；阻擋范圍：UV 20µm+；入射角：0°；基質(zhì)：直徑 25 mm 厚度 0.5 mm；表面質(zhì)量：劃痕小于 60-40；
窄帶濾光片 3055nm (檢測(cè) 乙炔C2H2)	NBP-3055-145-25	中心波長(zhǎng)：3055 nm (+/- 16nm)； FWHM：145 nm (+/- 17nm)；傳輸峰值：>75%；阻擋范圍：UV 20µm+；入射角：0°；基質(zhì)：直徑 25 mm 厚度 0.5 mm；表面質(zhì)量：劃痕小于 60-40；
窄帶濾光片 1940nm (用于檢測(cè) 水 H2O)	NBP-1940-42-25	中心波長(zhǎng)：1940nm (+/- 8nm)； FWHM：42 nm (+/- 5nm)；傳輸峰值：>85%；阻擋范圍：UV 3.5µm+；入射角：0°；基質(zhì)：直徑 25 mm 厚度 0.5 mm；表面質(zhì)量：劃痕小于 60-40；

產(chǎn)品總覽

4.530µm Filter for Nitrous Oxide Detection (N2O) (CO2)

光譜特性曲線的透射帶兩側(cè)為截止區(qū)的濾光片稱為帶通濾光片。帶通濾光片是一類重要的光學(xué)薄膜元件，它在化學(xué)、光譜學(xué)、激光、天文物理、光纖通信、生物學(xué)等領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用。用光波干涉原理制備的帶通濾光片的光譜曲線，波長(zhǎng)λ。附近光譜透射區(qū)稱為濾光片的通帶，通常兩側(cè)是截止區(qū)，而且截止區(qū)的周圍可能存在旁通帶，通常需要用有色玻璃、吸收膜或截止濾光片來(lái)消除旁通帶。

我們有各種濾波片用于檢測(cè)常見氣體和材料，所有過濾器均按直徑 25 毫米、厚度 0.5 毫米出售。

窄帶濾光片 4.530um (檢測(cè)一氧化二氮 N2O),窄帶濾光片 4.530um (檢測(cè)一氧化二氮 N2O)

型號(hào)參數(shù)

適用探測(cè)器

這些濾波片適用于硒化鉛 (PbSe)、碲鎘汞 (MCT) 和測(cè)電計(jì)型探測(cè)器。

光學(xué)規(guī)格

中心波長(zhǎng)	4530 nm (+/- 20nm)
FWHM	85 nm (+/- 20nm)
傳輸峰值	>75%
阻擋范圍	UV-20µm+
入射角	0°
基質(zhì)	直徑 25 mm，厚度 0.5 mm
表面質(zhì)量	劃痕小于 60-40

環(huán)境規(guī)格

附著力	MIL-C-48497A	Para 4.5.3.1
濕度	MIL-C-48497A	Para 4.5.3.2
輕度磨損	MIL-C-48497A	Para 4.5.3.3
嚴(yán)重磨損	MIL-C-48497A	Para 4.5.5.1
清潔能力	MIL-C-48497A	Para 4.5.4.2
水溶性	MIL-C-48497A	Para 4.5.5.3

通用參數(shù)

標(biāo)準(zhǔn)型號(hào)

零件號(hào)	CWL 中心波長(zhǎng)（nm）	透過率	FWHM 半高寬（nm）	建議使用
NBP-1940-42-25	1940 nm（+/- 8 nm）	>85%	42 nm（+/- 5 nm）	H2O（水）
NBP-3055-145-25	3055 nm（+/- 16 nm）	>75%	145 nm（+/- 17 nm）	C2H2（乙炔）
NBP-3260-150-25	3260 nm（+/- 16 nm）	>75%	150 nm（+/- 17 nm）	C2H4（乙烯）
NBP-3330-150-25	3330 nm（+/- 15 nm）	>75%	150 nm（+/- 15 nm）	CH4（甲烷）
NBP-3349-70-25	3349 nm（+/- 15 nm）	>75%	70 nm（+/- 15 nm）	C2H6（乙烷）
NBP-3400-155-25	3400 nm（+/- 15 nm）	>75%	155 nm（+/- 15 nm）	(HC) 一般碳?xì)浠衔?/td>
NBP-3900-180-25	3900 nm（+/- 18 nm）	>75%	180 nm（+/- 20 nm）	（參考）
NBP-4000-180-25	4000 nm（+/- 18 nm）	>75%	180 nm（+/- 15 nm）	（參考）
NBP-4260-160-25	4260 nm（+/- 20 nm）	>70%	160 nm（+/- 21 nm）	CO2（二氧化碳）
NBP-4530-85-25	4530 nm（+/- 20 nm）	>75%	85 nm（+/- 10 nm）	N2O（一氧化二氮）
NBP-4660-165-25	4660 nm（+/- 15 nm）	>75%	165 nm（+/- 15 nm）	CO（一氧化碳）
NBP-5330-190-25	5330 nm（+/- 25 nm）	>65%	190 nm（+/- 25 nm）	NO（一氧化氮）

型號(hào)說(shuō)明

公司簡(jiǎn)介
筱曉(上海)光子技術(shù)有限公司成立于2014年,是一家被上海市評(píng)為技術(shù)企業(yè)和擁有上海市專精特新企業(yè)稱號(hào)的專業(yè)光學(xué)服務(wù)公司，業(yè)務(wù)涵蓋設(shè)備代理以及項(xiàng)目合作研發(fā)，公司位于大虹橋商務(wù)板塊，擁有接近2000m²的辦公區(qū)域，建有500平的AOL(Advanced Optical Labs)光學(xué)實(shí)驗(yàn)室，為國(guó)內(nèi)外客戶提供專業(yè)技術(shù)支持服務(wù)。公司主要經(jīng)營(yíng)光學(xué)元件、激光光學(xué)測(cè)試設(shè)備、以及光學(xué)系統(tǒng)集成業(yè)務(wù)。十年來(lái),依托專業(yè)、強(qiáng)大的技術(shù)支持，以及良好的商務(wù)支持團(tuán)隊(duì)，筱曉的業(yè)務(wù)范圍正在逐年增長(zhǎng)。目前業(yè)務(wù)覆蓋國(guó)內(nèi)外各高校、科研機(jī)構(gòu)及相關(guān)領(lǐng)域等諸多企事業(yè)單位。筱曉擁有一支核心的管理團(tuán)隊(duì)以及專業(yè)的研發(fā)實(shí)驗(yàn)室，奠定了我們?cè)谠O(shè)備的拓展應(yīng)用及自主研發(fā)領(lǐng)域堅(jiān)實(shí)的基礎(chǔ)。
主要經(jīng)營(yíng)
激光器/光源
半導(dǎo)體激光器（DFB激光器、SLD激光器、量子級(jí)聯(lián)激光器、FP激光器、VCSEL激光器）
氣體激光器（HENE激光器、氬離子激光器、氦鎘激光器）
光纖激光器（連續(xù)激光器、超短脈沖激光器）
光學(xué)元件
光纖光柵濾波器、光纖放大器、光學(xué)晶體、光纖隔離器/環(huán)形器、脈沖驅(qū)動(dòng)板、光纖耦合器、氣體吸收池、光纖準(zhǔn)直器、光接收組件、激光控制驅(qū)動(dòng)器等各種無(wú)源器件
激光分析設(shè)備
高精度光譜分析儀、自相關(guān)儀、偏振分析儀，激光波長(zhǎng)計(jì)、紅外相機(jī)、光束質(zhì)量分析儀、紅外觀察鏡等
光纖處理設(shè)備
光纖拉錐機(jī)、裸光纖研磨機(jī) 。

更新時(shí)間：2024/4/15 15:42:47

關(guān)鍵詞：探測(cè)器光纖光柵濾波器驅(qū)動(dòng)器光譜分析儀