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365nm 無掩膜數字光刻機分辨率500nm 幀數100mmx100mm

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更新時間：2024-06-08 10:53:55瀏覽次數：110次

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筱曉（上海）光子技術有限公司

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產品簡介

筱曉光子無掩膜數字光刻機MCML-120A總覽產品特點采用數字微鏡(DMD)的無掩膜掃描式光刻機，365nm波長直接從數字圖形生成光刻圖案，免去制作掩模板的中間過程，支持直接讀取GDSII和BMP文件全自動化的對焦和套刻，易于使用晶圓連續運動配合DMD動態曝光，無拼接問題

詳細介紹

筱曉光子無掩膜數字光刻機 MCML-120A

總覽

產品特點

采用數字微鏡 (DMD) 的無掩膜掃描式光刻機，365nm波長

直接從數字圖形生成光刻圖案，免去制作掩模板的中間過程，支持直接讀取GDSII和BMP文件

全自動化的對焦和套刻，易于使用

晶圓連續運動配合DMD動態曝光，無拼接問題。全幅面定位精度0.1um

套刻精度： 0.2um

500 nm / 1 um分辨率，100mm x 100mm大幅面（4~6寸晶圓），滿幅面曝光時間5~30分鐘

500um小線寬

可灰度曝光（128階）

尺寸小巧，可配合用循環裝置產生內部潔凈空間

通用參數

應用

微流控、生物芯片、MEMS、功率器件、LED等試制加工

帶有2.5D圖案的微光學元件，衍射光器件制作

教學、科研

參數

	MCML-110A	MCML-120A
Wavelength 波長	365nm	365nm
Max. frame 大幀	100mm x 100mm	100mm x 100mm
Resolution 分辨率	1.0um	500nm
Grayscale lithography 灰度光刻	64 levels	128 levels
Max exposure 大曝光量	500mJ/cm2	2000mJ/cm2
Alignment accuracy 對準精度	<200nm	<100nm
field curvature 場曲率	< 1 um	< 1 um
Speed 速度	5mm2 /sec	2.5mm2 /sec
Input file 輸入文件	BMP, GDSII	BMP, GDSII
Z level accuracy Z精度	<1 um	<1 um
Environment 環境	20~25℃	20~25℃

樣品

（SU8-2002, 2um膠厚，2寸硅基底）

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