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鄭州科探儀器設備有限公司


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小型坩堝高溫真空蒸鍍儀

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參  考  價:38600
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 產(chǎn)品型號

    KT-Z1650CVD

  • 品牌

    鄭科探

  • 廠商性質

    生產(chǎn)商

  • 所在地

    鄭州市

規(guī)格

38600元 99臺可售

聯(lián)系方式:張正敏查看聯(lián)系方式

更新時間:2024-07-30 13:23:34瀏覽次數(shù):104次

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經(jīng)營模式:生產(chǎn)廠家

商鋪產(chǎn)品:100條

所在地區(qū):河南鄭州市

聯(lián)系人:張正敏 (銷售)

產(chǎn)品簡介

小型坩堝高溫真空蒸鍍儀:是一款小型臺式加熱功率可控蒸發(fā)鍍膜儀,儀器雖小功能齊全,配備有電壓 電流反饋,樣品臺旋轉,樣品高度調節(jié),及電動擋板功能。通過定時調節(jié)預熱功率及蒸發(fā)功率,可對大部分金屬進行均勻蒸發(fā)沉積,真空腔室為透明石英玻璃減少樣品污染,樣品臺可旋轉以獲得更均勻的薄膜,可制備各種金屬薄膜和有機物薄膜。

詳細介紹

小型坩堝高溫真空蒸鍍儀

是一款小型多功能鍍膜儀,額定1800度高溫,自動樣品擋板,靶臺旋轉,觸摸屏多段控制,工藝儲存等功能真空蒸發(fā)鍍膜包括以下基本過程:

1)加熱蒸發(fā)過程:包括由凝聚相轉變?yōu)闅庀嗟倪^程,每種蒸發(fā)物質在不同的溫度有不同的飽和蒸氣壓。(2)氣態(tài)原子或分子在蒸發(fā)源與基片之間運輸,即原子或分子在環(huán)境氣氛中的飛行過程。

3)蒸發(fā)原子或分子在基片表面張得沉積過程。即是蒸發(fā),凝聚,成核,核生長,形成連續(xù)的膜。由于基板溫度遠低于基板溫度遠低于蒸發(fā)源溫度,因此,氣態(tài)分子在基片表面將發(fā)生直接由氣態(tài)到固態(tài)的相轉變過程。

小型坩堝高溫真空蒸鍍儀技術參數(shù)

控制方式

7寸人機界面 手動 自動模式切換控制

加熱方式

數(shù)字式功率調整器

鍍膜功能

0-9995段可變換功率及擋板位和樣品速度程序

功率

≤1200W

輸出電壓電流

電壓≤12V 電流≤120A

真空度

機械泵 ≤5Pa5分鐘) 分子泵≤10^-3Pa

擋板類型

電控

真空腔室

石英+不銹鋼腔體φ160mm x 160mm

樣品臺

可旋轉φ62 (可安裝φ50基底)

樣品臺轉速

8/分鐘

樣品蒸發(fā)源調節(jié)距離

70-140mm

蒸發(fā)溫度調節(jié)

≤1800℃

支持蒸發(fā)坩堝類型

鎢絲藍 帶坩堝鎢絲藍 鎢舟 碳繩

預留真空接口

KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口

可選配擴展

機械真空泵(可抽真空 5分鐘<5Pa

數(shù)顯真空計(測量范圍大氣壓到0.1Pa

分子泵機組(可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa

 


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