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產品介紹
離子濺射儀（磁控）
離子濺射儀（磁控）
此款TZ-1000型小型磁控離子濺射儀主要用于SEM制樣樣品鍍導電膜（如金膜）或材料鍍膜，儀器，操作簡單方便。采用磁控冷態濺射，基本不升溫，大限度保護樣品。
主要特點:
2 顯示操作面為30°斜面，充分考慮操作的便捷和視覺體驗，方便觀察操作；
2 真空泵連接管路為金屬波紋管，美觀耐用；
2 微調閥調節靈敏準確，帶有刻度標識；
2 真空泵抽速快，噪音低，適合實驗室使用；
2 控制電路為控制板，工作穩定；
2 顯示控制操作部分布局合理，位于同側，使用方便；
2 磁控冷態濺射，基本不升溫，大限度保護樣品；
技術參數:
1.樣品室空間：直徑120mm×高110mm
2. Pt靶為標配，靶材尺寸：φ50mm×0.1mm
3.獨立真空控制電路設計，實現真空度和濺射電流，安全互鎖，可調大電流40mA；
4.侵入式磁控低溫離子源，可快速換靶材，環繞暗區護罩；
5.使用獨立計時控制器，計時，可調設置范圍:1-500秒，連續可調
6.自動真空泄氣功能，自動排氣，可通過數字定時器進行控制
7.進口真空泵，抽速8.5m3/h，噪聲不大于48dB,可置于抗震臺上，全金屬集成耦合系統
8.微型真空氣閥：高精度微量流量閥，精度±0.1Pa
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