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特點

無維護自動烘干技術

微處理器控制

連續或間歇操作

LCD 顯示

流量顯示

可視操作狀態指示燈

RS485 和 RS232 接口（可選）

兩個或多個氫氣發生器級聯（可選）

概要

NM-H2 氫純度發生器利用的隔膜技術作為純氫電解產品。包括*的無維護自動烘干技術。作為點火工具的燃料氣；各種載氣，象GC（氣相色譜）和GCMS（質譜），或離子室中的純氫源和其它隔離環境。NM-H2 系列氫純度發生器用于氣體分析儀較理想的操作。

技術

電解膜是制氫技術中*的技術，由于它潔凈、維護量少和為維護操作不需要存貯化學藥品.僅用純凈或者蒸餾水或者脫離子水, 要求提供**操作。NM-H2 和其它的氫氣發生器比較，其它發生器是用腐蝕性溶液制氫，所以NM-H2利用特殊電解膜制氫是比較有利的,腐蝕性溶液中的雜質會影響氫氣純度。并且隨著時間的推移能引起系統退化。隔膜分離也是意味著減少消耗，因為日常的維護意思是“只需要加水”。不需要存貯腐蝕性的混合物/溶液，或消耗電池執行清潔程序。

特點

低含量（<40 ml）氫對 NM-H2 安全操作受到限制的，自動關斷程序作為備用放置在這個單元，如果內部錯誤及選擇報警發生時，通知用戶，只要操作條件不同于設定。

技術規格

電解池隔膜型

H2 純度 > 99.9999%

輸出壓力 1-155 psig,0,1-10,0 bar可調

H2 流速根據量程可調

NM-H100 10 - 100 ml/min

NM-H160 16 - 160 ml/min

NM-H250 25 - 250 ml/min

NM-H500 50 - 500 ml/min

用戶界面通電, 系統 OK, 系統故障

選項自動填充泵或閥（要求I/O板選項）

水質脫離子或蒸餾水

供電 120 VAC, 50/60 Hz or 240 VAC

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地址：青島市市南區漳州二路54號

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