紫外光源機型有功率 : 350W，500W，1000W，2000W，3500W，5000W 。

曝光光源尺寸 : 4″，6″，8″，10″，12″ 。

波長 : NUV(含365nm, 400nm, 435nm) ，光源平行半角 : 1.5~2.5度(依出光口徑)。

均勻度: +-3~5% ，高壓汞燈泡及電源供應器。

采用可變倍率鏡頭方便對準操作，標準倍率 50X-300X， 配合CCD影像系統，

19吋LCD螢幕， 打光有LED同軸光或環形光， 觀測的兩點間距 4cm-15cm ，

可選配鏡頭掃描臺以快速移動鏡頭， 可選配背面對準影像系統。

光罩真空吸盤 : 上吸式或下吸式4″，5″，6″， 7″， 9″ 。

晶圓真空Chuck : 2″， 4″， 6″，8″圓形或方形， 具光罩晶圓水平校正功能。

曝光模式有 : 真空接觸式與近接式，可調整真空吸附力大小， X，Y軸調整 10mm，調整解析度 2um， Z軸可調整 5mm，

千分表解析度 1um， 上光罩開啟以取放基板。

采PLC半自動操作系統， 可切換手動及自動模式。

操作流程 : 置基板， (按鍵)上光罩關閉，鏡頭移入做對準動作，(按鍵)上光罩下壓,鏡頭移出燈源移入曝光(計時)，

燈源移出取，上光罩開啟，取基板。

曝光快門控制 : 計時器控制 0.1-999秒。

能量控制 : 0.1~9000mJ/cm2。

具四個防震氣墊，具調整腳及移動輪， 鋁擠型機架加鋁板及黃色PVC抗靜電包覆機臺，開數個操作與維修門窗及視窗。

產量依對位精度及曝光時間而不同可達每分鐘曝三片，

采真空接觸曝光圖形解析可達1um以內(正光阻厚 1um)，

采近接式曝光依晶圓與光罩間距設定約在 3~5um。