紫外光源機(jī)型有功率 : 350W，500W，1000W，2000W，3500W，5000W 。

曝光光源尺寸 : 4″，6″，8″，10″，12″ 。

波長(zhǎng) : NUV (含365nm， 400nm，435nm) 光源平行半角 : 1.5~2.5度 (依出光口徑)。

均勻度 : +-3~5% ，高壓汞燈泡及電源供應(yīng)器。

正面對(duì)準(zhǔn)影像系統(tǒng)采用可變倍率鏡頭方便對(duì)準(zhǔn)操作，標(biāo)準(zhǔn)倍率50X-300X，

配合CCD影像系統(tǒng)，19″ LCD螢?zāi)?打光有LED同軸光或環(huán)形光， 觀測(cè)的兩點(diǎn)間距4cm-15cm ，

可選配鏡頭掃描臺(tái)以快速移動(dòng)鏡頭， 背面對(duì)準(zhǔn)影像系統(tǒng)采用多段倍率鏡頭或固定倍率鏡頭，

雙CCD攝影機(jī)影像系統(tǒng)，切換使用上影像LCD螢?zāi)籐ED同軸打光， 兩組背對(duì)準(zhǔn)影像處理器，

鏡頭前后左右上下微調(diào)約10mm， 可加裝破片對(duì)位用菱鏡組。

光罩真空吸盤 : 上吸式或下吸式 4″， 5″，6″，7″， 9″ 。

晶圓真空 Chuck : 2″， 4″，6″，8″ 圓形或方形， 具光罩晶圓水平校正功能。

曝光模式有 : 真空接觸式與近接式，可調(diào)整真空吸附力大小， X，Y軸調(diào)整10mm，調(diào)整解析度2um， Z軸可調(diào)整5mm， 千分表解析度1um， 上光罩開啟以取放基板。

采PLC半自動(dòng)操作系統(tǒng)， 可切換手動(dòng)及自動(dòng)模式。

操作流程 : 置基板(按鍵)上光罩關(guān)閉，鏡頭移入做對(duì)準(zhǔn)動(dòng)作， (按鍵)上光罩下壓， 鏡頭移出燈源移入曝光(計(jì)時(shí))，燈源移出取，上光罩開啟，取基板。

曝光快門控制 : 計(jì)時(shí)器控制 0.1-999秒或能量控制 : 0.1~9000mJ/cm2。

具四個(gè)防震氣墊，具調(diào)整腳及移動(dòng)輪， 鋁擠型機(jī)架加鋁板及黃色PVC抗靜電包覆機(jī)臺(tái)，開數(shù)個(gè)操作與維修門窗及視窗。

產(chǎn)量依對(duì)位精度及曝光時(shí)間而不同可達(dá)每分鐘曝三片，

采真空接觸曝光圖形解析可達(dá)1um以內(nèi)(正光阻厚1um)，

采近接式曝光依晶圓與光罩間距設(shè)定約在3~5um。