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BG-501曝光機

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱三河建華高科有限責任公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2023/7/9 19:08:29
  • 訪問次數314
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三河建華高科有限責任公司成立于2003年6月13日,是隸屬公司地四十五研究所的國有控股公司。公司地處北京東燕郊經濟技術開發區海油大街253號,占地100畝;公司現有總資產1.668億元,資產負債率0.4%,銀行信用等級AA+。三河建華高科有限責任公司以打造“中國半導體制造設備的者”為目標,致力于半導體元器件材料加工和芯片制造及檢測專用設備的研究開發與生產制造,傾力建設華北地區高精密機械、光學、電氣零部件制造中心。公司現有職工230余人,其中各類技術人員60余人,高級技術職稱30余人,高級技能以上人才70余人。先后榮獲了國家科技型中小企業、河北省企業、科技小巨人、工業企業研發機構、廊坊市研發平臺、廊坊市企業技術中心、廊坊市專用設備及精密零部件制造研發中心等多項榮譽。經過多年的科學運作和生產經營,公司規模逐步壯大,每年的銷售收入呈逐年增長的態勢,公司固定資產處于增值的良好狀態。
主要用于中小規模集成電路和半導體元器件制造工藝中的對準及曝光
BG-501曝光機 產品信息

主要用于中小規模集成電路和半導體元器件制造工藝中的對準及曝光。本產品操作方便、穩定性高、重復性好,并具有較高的性能價格比,可廣泛應用于科研和生產。

主要技術特點

對準工作臺

對準精度搞,漂移小,精密楔形誤差補償機構實現三點找平,找平力小,延長掩摸版使用壽命。

曝光系統

采用柱體蠅眼透鏡和高能力集光的橢球反射鏡等精密光學件,具有較高的光強、均勻性、光學分辨率。

分離視場顯微鏡

顯微鏡像質清晰,觀察舒適。

控制系統

電氣控制采用可編程序控制器(PLC)、LCD顯示器,操作方便,汞燈電源易于觸發,可靠性高。該設備的關鍵件采用進口或專業廠家制造,氣動元件采用SMC產品,提高了設備的穩定性、可靠性,同時提供個性化服務。

主要技術指標

 

性能名稱

技術指標

適用基片尺寸

Max. φ5″(φ125mm)

適用掩模版尺寸

Max. 6″(150mm×150mm)

工作臺行程

X向

±5mm

Y向

±5mm

Z向

3mm

θ向

±5°

基片與掩模版分離間隙

0~0.05mm

對準精度

±1μm

顯微鏡

物鏡放大率

0.75×~5×

總放大倍數

40×~300×

物鏡分離距離

50~120mm

掃描范圍

50mm×50mm

調焦范圍

8mm

曝光光源

365nm,500W進口汞燈

曝光面積

φ160mm

曝光分辨率

1.5um(正膠、真空接觸)

光強

20mW/cm2

曝光不均勻性

±5%

曝光時間

0~999s

外型尺寸

1300mm×1100mm×1650mm

重量

300Kg

 

關鍵詞:
曝光
采用
分離
主要
尺寸
設備
光強
物鏡
分辨率
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