應用領域：

電子束蒸發可以蒸發高熔點材料，比一般電阻加熱蒸發熱效率高、束流密度大、蒸發速度快，制成的薄膜純度高、質量好，厚 度可以較準確地控制，可以廣泛應用于制備高純薄膜和導電玻璃等各種光學材料薄膜。

基本配置：

◆真空腔室：500mm×650mm 不銹鋼 D 形腔體。前門鉸鏈方便真空室清理；腔室底板，頂部和側面裝有腔室內硬件接口； 前門上配直徑 80 玻璃觀察窗（含手動防污染擋板、可拆洗防污玻璃）；腔體水冷。 

◆抽氣系統：采用復合分子泵 + 直聯旋片泵作為真空抽氣系統； 主抽泵：分子泵抽速≥ 1200L/S，氮氣壓縮比≥ 109 ； 前級泵：VRD-30 雙極旋片泵及電磁閥，抽速：8L/S 主抽閥：CCQ-200 超高真空氣動插板閥 

* 真空系統可以升級為進口分子泵和渦旋干泵。 

◆真空測量： 數顯復合真空計： “兩低一高”全量程數顯復合真空計； 

* 真空測量可以升級為進口全量程冷陰極真空計 

◆極限真空：<5×10-5Pa ◆恢復真空：<6.7×10-4Pa(< 45 min) 

◆電子束蒸發源：電子槍采用磁流體密封，安裝在腔室底部靠中心位置。 高壓電壓：DC-3KV ～ -10KV（可設） 電流：0-1000mA（此時的加速電壓是 -10kV） 加速功率：10KW；電子束偏轉角：270°（永磁鐵） 

◆坩堝：配直徑 160mm 6 穴直冷坩堝一套，電動轉位和點動轉位，定位精準。單穴容量≥ 20cc 

◆薄膜鍍層控制儀： Inficon SQC-310 在線測量膜厚，可以實時測量蒸發的速度和厚度，帶有 PID 控制功能， 可通過膜厚儀自動控制蒸鍍速率。 

◆樣品臺：可容納樣品尺寸，6 英寸樣品托一個 , 配擋板，轉速 0-30rpm 連續可調 ; 采用基片臺背板直接水冷形式；基片采用無氧銅，水冷不控溫。 

◆控制單元：15 英寸觸摸屏 +PLC 控制

選擇配置：

◆樣品可加熱控溫，( 可選帶掩膜庫系統樣品臺 ) 溫度范圍：室溫 -600℃，控溫精度 ±0.5℃； 

◆電子槍可選用進口品牌 

◆離子束輔助沉積源 

◆全量程真空計 (Inficon)

系統要求標準配置：

◆工藝氣體 :25psi，純度 99.99% 以上 

◆工作氣體 : 干燥壓縮空氣、氮氣 

◆電 源 : 三相 380V, 50Hz, 63A 

 ◆冷 凍 水 :18-25℃ , 6L/min，壓力 <0.4MPa