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Table PVD-10 磁控濺射系統

參考價面議
具體成交價以合同協議為準
  • 公司名稱杭州大華儀器制造有限公司
  • 品       牌
  • 型       號
  • 所  在  地杭州市
  • 廠商性質其他
  • 更新時間2024/4/26 19:58:27
  • 訪問次數299
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杭州大華儀器制造有限公司坐落于杭州市富陽區美麗的富春江畔、《富春山居圖》 的實景地、誕生地、經濟技術開發區-----東洲工業功能區內,處在國家黃金旅游線”錢塘江- 富春江千島湖-黃山”的中心位置。公司始創于1993年,廠區建筑面積35000多平方米,是一家倡導服務,集科研、生產、銷售于-體的國家重點扶持企業。二十多年來-直致力于大學物理實驗教學儀器、科研儀器設備的研發生產和銷售,形成了以8大系列400余種專業物理實驗儀器設備為主,電工儀器為輔,配套設備為支撐的產業結構。2010年,公司研發中心被評為以“科教儀器為主要研究方向”的省級企業研發中心,2016年被杭州授予“杭州市院士工作站”。2017年,被省委認定為“省級院士工作站”。公司以“科技締造未來”為企業理念,重視科技創新和產學研合作、重視人才的引進與培養,2000年以來與中科院固體物理研究所、清華大學、浙江大學、華中科技大學、四川大學、天津師范大學、西安交通大學、西北工業大學、武漢工程大學等20多家高等院校和科研院所建立了穩定的產學研合作關系、大學生實踐基地,在功能材料科教儀器設備及測試技術、等離子體技術應用、大學物理設計創新、新能源產業等領域開展了廣泛的科技創新合作。公司累計獲得國家100余項,在全國高校物理實驗儀器評比中,共獲得四項-等獎,十二項二等獎,十五項三等獎的榮譽。并相繼獲得了“ 全國名優產品售后服務*單位”、“ 中國質量信用AA單位”、“ 浙江省示范企業”、“ 浙江省民營經濟示范企業”、、“杭州” 等榮譽稱號,連續多年列入“中國高教儀器設備發展情況年度報告”設備選購推薦企業之一, 國歡迎的實驗室儀器設備企業之一。以“用戶至上,服務滿意,質量為本,科學管理”為企業宗旨, 嚴格執行"IS09001: 2015國際質量管理體系” 的標準,導入3Q6S精細化管理模式,注重- -切流程以用戶滿意為標準, 精益求精,持續提高產品的品質。我們的服務和產品現已遍布國內外兩千余所大專院校、科研院所和工業企業,并出口美國、法國、東南亞、中東、古巴等國家和地區。
實驗裝置
應用領域:本裝置是磁控濺射鍍膜系統,該系統兼容直流和射頻濺射源,可濺射金屬、非金屬及化合物薄膜(如:ITO)等;廣泛應用于科研院所、實驗室制備單層或多層薄膜,以及新材料、新工藝研究
Table PVD-10 磁控濺射系統 產品信息

應用領域:

本裝置是磁控濺射鍍膜系統,該系統兼容直流和射頻濺射源,可濺射金屬、非金屬及化合物薄膜 ( 如:ITO) 等;廣泛應用于科研院所、實驗室制備單層或多層薄膜,以及新材料、新工藝研究。 本裝置系統結構緊湊,系統采用模塊化設計可擴展性高,在保證系統穩定性的前提下,進一步優化您的實驗室利用空間;適合擺放于工作臺面上。

Table PVD-10 磁控濺射系統.jpg

基本配置:

真空腔室:Φ250 mm(ID) x 250 mm(H) 

真空系統:機械泵 + 分子泵兩級真空系統 前級泵:VRD-16 機械泵,抽速:4L/S ;主抽泵:分子泵,抽氣速率:300L/S 主抽閥:CC-100 超高真空手動插板閥, 可調節分子泵抽速,有利于穩定工藝氣壓。 

極限真空:<5×10-5Pa 

恢復真空:<6.7×10-4Pa(< 45 min) 

真空測量:兩低一高數顯復合真空計 

源:最多 2×2 英寸磁控靶 

濺射電源:直流 (500W ) 一臺(標配) 

進氣系統:一路 MFC 控制的工藝氣路(Ar 

樣品臺:可容納樣品尺寸:3 英寸樣品托一個 , 配擋板,轉速 0-30rpm 連續可調樣品可加熱控溫, 溫度范圍:室溫 -300,控溫精度 ±0.5; 

系統控制:10 英寸觸摸屏 +PLC 控制

選擇配置:

樣品臺可水冷,采用直接式水冷形式,水冷不控溫 

全量程真空計( Inficon 

電容式隔膜真空計 ( 測量濺射工作壓力

射頻電源(RF300W(可選) 

 系統要求標準配置: 

工藝氣體 :25psi,純度 99.99% 以上 

工藝氣體(Ar 工作氣體 : 干燥壓縮空氣、氮氣 

: 單相 220V , 50Hz, 16A 

  :18-25 , 1L/min,壓力 < 0.4MPa


關鍵詞:觸摸屏
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