石英部件清洗機(jī)是專為半導(dǎo)體制造中石英爐管、鐘罩、舟（Boat）等高精密部件設(shè)計(jì)的清洗設(shè)備，通過(guò)化學(xué)腐蝕、物理剝離及表面處理技術(shù)，確保石英部件的純凈度與使用壽命。以下是其詳細(xì)介紹：

一、核心功能與技術(shù)原理

化學(xué)腐蝕

氫氟酸（HF）清洗：針對(duì)石英表面金屬污染（如鋁、鐵），利用緩沖HF溶液選擇性腐蝕氧化物，避免損傷基底。

高溫硫酸雙氧水（SPM）處理：通過(guò)H?SO?與H?O?混合液（溫度達(dá)120℃）氧化有機(jī)物，如光刻膠殘留，適用于重污染部件。

物理清洗

兆聲波（MegaSonic）技術(shù)：高頻（>800kHz）聲波產(chǎn)生空化效應(yīng)，剝離亞微米顆粒，替代傳統(tǒng)超聲波，提升復(fù)雜結(jié)構(gòu)（如噴嘴、腔體）的清洗均勻性。

真空超聲波清洗：在真空環(huán)境下消除氣泡屏蔽效應(yīng)，增強(qiáng)液體滲透性，適用于深孔或高深寬比結(jié)構(gòu)。

表面處理

等離子清洗：結(jié)合氧氣（O?）或氬氣（Ar）等離子體，去除有機(jī)殘留并活化表面，為后續(xù)工藝（如CVD沉積）做準(zhǔn)備。

熱氮干燥：惰性氣體（N?）吹掃或真空烘干，避免水漬殘留，防止石英部件在高溫環(huán)境中（如擴(kuò)散爐）因應(yīng)力開裂。

二、設(shè)備類型與工藝優(yōu)勢(shì)

設(shè)備類型

槽式清洗機(jī)：多槽聯(lián)動(dòng)設(shè)計(jì)，支持酸洗、漂洗、干燥一體化流程，適用于批量處理（如8寸/12寸石英爐管）。

單片機(jī)臺(tái)：?jiǎn)为?dú)處理單顆石英部件，精準(zhǔn)控制腐蝕時(shí)間與溫度，適配制程（如28nm以下芯片）對(duì)微粒控制的需求。

工藝優(yōu)勢(shì)

均勻性控制：自動(dòng)旋轉(zhuǎn)軸（20-60rpm）與導(dǎo)流噴口設(shè)計(jì)，確保腐蝕液均勻分布，邊緣排斥技術(shù)（ERCE）減少晶圓邊緣過(guò)度腐蝕。

污染物去除能力：可清除>99.9%的顆粒（<0.1μm）、金屬離子（<1×101? cm2）及有機(jī)物，滿足半導(dǎo)體級(jí)潔凈度要求。

環(huán)保性：封閉式反應(yīng)腔體與廢液回收系統(tǒng)，減少危廢排放；部分設(shè)備支持無(wú)氟清洗液（如檸檬酸替代HF），降低環(huán)境風(fēng)險(xiǎn)。

三、國(guó)產(chǎn)化進(jìn)展與行業(yè)應(yīng)用

國(guó)產(chǎn)設(shè)備突破

支持定制化服務(wù)，如針對(duì)碳化硅（SiC）爐管的高溫耐腐蝕設(shè)計(jì)，或適配特定尺寸石英件的槽體定制。

應(yīng)用場(chǎng)景

半導(dǎo)體制造：CVD、PVD爐管清洗，保障薄膜沉積均勻性；光刻機(jī)石英鏡片清洗，提升光學(xué)性能。

光伏產(chǎn)業(yè)：石英坩堝清洗，延長(zhǎng)使用壽命并提高單晶硅片質(zhì)量。

LED/MEMS器件：微型石英部件（如諧振器、傳感器）的高潔凈度處理。

石英部件清洗機(jī)是保障半導(dǎo)體制造良率與設(shè)備壽命的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，技術(shù)迭代聚焦高精度、高均勻性與環(huán)保化。隨著國(guó)產(chǎn)設(shè)備廠商的技術(shù)突破，其在國(guó)內(nèi)市場(chǎng)的份額將持續(xù)擴(kuò)大，助力半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈自主可控。