ITO 納米高速分散機 德國進口分散機，高剪切分散機，高轉速分散機，IKN分散機，不銹鋼分散機，分體式分散機，管線式分散機

ITO 是一種N型氧化物半導體-氧化銦錫,ITO薄膜即銦錫氧化物半導體透明導電膜，通常有兩個性能指標：電阻率和透光率。

在氧化物導電膜中，以摻Sn的In2O3(ITO)膜的透過率zui高和導電性能，而且容易在酸液中蝕刻出細微的圖形，其中透光率達90%以上。ITO中其透光率和阻值分別由In2O3與SnO2之比例來控制，通常SnO2:In2O3=1:9。

目前ITO膜層之電阻率一般在5*10E-4左右，可達5*10E-5，已接近金屬的電阻率，在實際應用時，常以方塊電阻來表征ITO的導電性能，其透過率則可達90%以上，ITO膜之透過率和阻值分別由In2O3與SnO2之比例控制，增加氧化銦比例則可提高ITO之透過率，通常SnO2: In2O3=1:9，因為氧化錫之厚度超過200Å時，通常透明度已不夠好---雖然導電性能很好。

高速分散機是相對于低轉速的分散設備來講的，高速管線式分散機有著超高的剪切轉速，zui高轉速可達14000rpm，比傳統的分散設備更高效！

材料達到納米尺度以后會表現出很多.. 納米尺寸效應.., 以零維的微觀顆粒來講, 當顆粒尺寸達到納米尺度以后, 其團聚效應顯x增加, 團聚體內顆粒的相互吸引力也顯x增大, 分散難度變大。傳統的分散機對納米級*進行分散時，很難真正均勻將*分散開來。新的工藝方式是應用*分散機，高剪切分散機ERS2000系列進行分散。

*納米氧化物極易產生自身的團聚，使得應有的性能難以充分發揮。此外，納米氧化物的諸多奇異性能能否得到充分發揮，還取決于zui大限度降低粉體與介質間的表面張力。因此，納米氧化物粉體必須均勻分散，充分打開其團聚體，才能發揮其應有的奇異性能。

高速分散機主要用于微乳液及超細懸浮液的生產。由于工作腔體內三組分散頭（定子+轉子）同時工作，乳液經過高剪切后，液滴更細膩，粒徑分布更窄，因而生成的混合液穩定性更好。三組分散頭均易于更換，適合不同的工藝應用。該系列中不同的型號的機器都有相同的線速度和剪切率，非常易于擴大生產。適宜的溫度，壓力與粘度參數與DISPGRSING一樣。也符合CIP/SIP清潔標準，適合食品及醫藥生產。

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ERS2000系列產品與傳統的設備對比

一、傳統設備需要8小時的分散過程，ERS2000設備1小時就可以完成，更加高效、節能。

二、傳統設備的攪拌轉速每分鐘幾十轉，帶有分散功能的每分鐘轉速也在1500轉之內，而IKN/依肯ERS2000系列每分鐘轉速可達到5000-6000轉，更加快速。超高的線速度產生的剪切力，使物料瞬間細化分散，從而獲得更高品質的產品。

ERS2000系列與同類設備的對比

一、發熱問題。同類設備在加工過程中，高粘物料進入腔體后，因背壓力大而輸送效果差，導致物料在設備腔體中停留時間過長而導致嚴重發熱。ERS2000系列設備在確保效果的基礎上，減小了背壓阻力，提高了輸送能力，減少了停留時間，降低了物料發熱的狀況。

二、多層多向剪切分散。同類設備定、轉子等部件結構單一，多級多層的結構只是單純的重復性加工，相同的齒槽結構易發生物料未經分散便通過工作腔的短路現象。ERS2000系列定、轉子結構采用多層多向剪切的概念，裝配式結構使物料得到不同方向的剪切分散，杜絕短路現象，超細分散更加*。

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