光刻機介紹
曝光裝置 MA-1200 基板追大尺寸 200 x 200mm ?4″ ～ ?6″
光源 超高壓水銀燈 ：500W or 1kW
曝光裝置 MA-1400 基板追大尺寸400 x 400mm
光源 超高壓水銀燈 ：2kW or 3.5kW
LED,LN曝光裝置MA-4000 圓晶尺寸?2～4″或者?4～6″
光源 超高壓汞燈：500W 或 1kW
?200mm/?150 mm 對應曝光裝置MA-4301M 材料SI 玻璃， 對齊精度自動對齊：+/- 1 μm（
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?300mm對應曝光裝置MA-5301ML 光源超高壓汞燈：3.5kW ?200mm規格也可對應
マスクレス露光裝置MX-1201 曝光掃描速度43.94mm/s 有效曝光區域200 x 200 追大曝光量（※3）245/70/245+70
マスクレス露光裝置MX-1201E 曝光掃描速度22.5mm/s 有效曝光區域200 x 200 追大曝光量（※3）460/70135
マスクレス露光裝置MX-1205 曝光掃描速度9/4.5mm/s 有效曝光區域100 x 100 追大曝光量（※3）100/50
主要規格
MA-1200、MA-1400
| | MA-1200 | MA-1400 |
| 基板尺寸 | 追大 200 x 200mm ?4″ ～ ?6″ | 追大 400 x 400mm |
| 光源 | 超高壓水銀燈 ：500W or 1kW | 超高壓水銀燈 ：2kW or 3.5kW |
| 外觀尺寸及重量 | 本體尺寸 | W1240 x D1100 x H1725 mm | W1440 x D1590 x H1882 mm |
| 本體重量 | 400kg | 400kg(包含無塵機房) |
| 光源重量 | － | 250kg |
| 選購項 | 無塵機房、背面對位、硬接觸(真空密著式)、自動對位、對應破碎基板等特殊尺寸(需商洽)。 |
※基板尺寸和水銀燈瓦數及特殊規格可商洽
