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CCD全自動曝光機

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具體成交價以合同協議為準

產品型號UVE-HSAP5K

品       牌

廠商性質其他

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更新時間:2023-06-18 09:24:33瀏覽次數:465次

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產品簡介

產品詳細介紹詳細參數內容規格A.一般規格曝光系統光源:Hg-Xe短弧燈

詳細介紹

  • 產品詳細介紹
  • 詳細參數
內容 規格
                             A.一般規格
曝光系統 光源:Hg-Xe短弧燈,輸出功率5KW,雙燈
平行半角(CHA):2°  傾斜角(DA):2°
均勻度:≥85%(min/max)  強度:20mw/cm²(玻璃上)
有效曝光面積:546*622mm
Panel規格 尺寸:254*304.8mm至558.8*635mm(10''*12"至22"*25")
厚度:0.05mm(不含銅)至2.0mm
玻璃尺寸 上:L800*W718*8t      下:L709*W621*8t
PCB靠操作面中間對位
曝光作業 雙面曝光/內層板用底片CCD自動對位系統,每片確認。對準精度±10um
底片尺寸 24"*27"   Cycle Time:機械動作12秒+吸真空延遲+曝光時間
密合模式 真空密合,真空度-300~-500mmHg(附表顯示)
操作方式 操作系統:PC系統+PLC+人機界面
機臺尺寸 外部尺寸:L 2900mm*W 2430mm*H 2190mm
輸送面高度:1120mm+30mm
公用系統 電力:AC380V 3φ 50Hz  60A 13KVA
氣壓源:>6Kg/cm2
                             B.系統架構
Panel傳送系統 進出料傳動:滾輪帶動
薄板專用機構:進出料Roller間加入支撐板
進料定位:二段式靠邊定位,前緣利用滾輪慢速傳動定位
曝光室進出移載:以伺服馬達帶動移載機
移載機取置:氣缸帶動取置架上下,真空吸盤移載機裝置氣缸
帶動取置架上下,真空吸盤組依板寬手動調整
曝光臺框 玻璃對玻璃方式采用高UV透光率玻璃
上臺框由伺服馬達帶動開關,上下框間由四支定位銷定位
底片吸附在臺面真空槽,PCB以下臺框真空吸附
靜電消除 于進料段裝置上下靜電消除棒
冷卻 燈室冷卻:氣冷(內循環)
曝光室冷卻:氣冷,抽取室內空氣經HEPA吹入曝光室
潔凈控制 客戶潔凈室等級需求:Class 10000
機臺使用99.97%~99.99%HEPA Filter
UV光源監控
遮光器:水平移動,裝置在燈室外,由氣缸帶動
曝光計算:內建UV能量積算器,可依能量或時間曝光
對位方式 4靶標CCD影像對位
底片固定 臺面玻璃 溝槽吸真空
調整機構 微步進馬達驅動上臺框微調機構
控制方式 自動對位及觸控式熒幕PC+PLC
視覺光源 LED式CCD背光組
底片對位精度 ±10μm內(不含漲縮)
備注 外觀采SUS材質

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