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多波長(zhǎng)光源UVW25紫外曝光機(jī)

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簡(jiǎn)易的紫外線腔室柜該紫外線腔室工具集中于一點(diǎn)：光致抗蝕層的UV曝光

詳細(xì)介紹

UV-chamber-UVW25-microfluidic-microfabrication-150x150.png UVW25-exposure-microfluidic-microfabrication-UVled-lithography-VC-200x200.png

簡(jiǎn)易的紫外線腔室柜
該紫外線腔室工具集中于一點(diǎn)：光致抗蝕層的UV曝光。這是一個(gè)使用UV LED工作的便攜簡(jiǎn)易設(shè)備，可確保較長(zhǎng)的使用壽命及的中心曝光波長(zhǎng)，且無(wú)需加熱或冷卻時(shí)間。您可以對(duì)設(shè)備的曝光功率和曝光時(shí)間這兩個(gè)主要參數(shù)進(jìn)行調(diào)節(jié)，以有效地加工微流體模具。

● 可編程的功率和曝光時(shí)間
● 簡(jiǎn)易的遮罩位置
● 快速且易于使用
● 不需要潔凈室

優(yōu)勢(shì)
● ＜15°的準(zhǔn)直良好的光線
● 可編程的照明功率和曝光時(shí)間
● 可切換的UV LED光源（365nm，385nm，395nm，405nm）
● 提供軟光刻工藝的技術(shù)文檔和知識(shí)

價(jià)格低廉的簡(jiǎn)易曝光設(shè)備
使用UVW25曝光機(jī)，操作簡(jiǎn)單且高效。主要目標(biāo)是使您的光刻膠暴露在所選的紫外光線下。

技術(shù)支持
我們對(duì)提供的所有設(shè)備均提供高水平的支持，同時(shí)也為曝光前后的相關(guān)微加工步驟提供支持。我們不僅可以幫助您完成加工流程的一部分，同時(shí)還可以在整個(gè)流程中為您提供指導(dǎo)。

技術(shù)規(guī)格
● 集成紫外線燈的UVW25曝光機(jī)，提供365nm、385nm、395nm或405nm四種不同的波長(zhǎng)選擇，以適應(yīng)各種光刻膠。
● UVW25曝光機(jī)具有90%以上的曝光均勻性和15°以下的準(zhǔn)直角
● 標(biāo)稱(chēng)曝光功率為250mW/cm2，但可以在20%至99%之間進(jìn)行調(diào)節(jié)
● 托盤(pán)尺寸為300×300mm，因此可用于曝光6英寸的基材。
● 托盤(pán)可以通過(guò)5個(gè)不同的位置移開(kāi)或移近紫外燈（它將定義典型的功率和暴露在表面上的區(qū)域），該位置有5個(gè)不同的位置：距離UV LED燈的發(fā)射窗口5/10/15/20/或25cm。
● UVW25的正面有一個(gè)安全窗口，可以在曝光期間無(wú)風(fēng)險(xiǎn)地看到曝光過(guò)程。