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LSCE-800接觸式曝光機

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更新時間：2024-05-15 12:31:23瀏覽次數：309次

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產品簡介

LSCE-800接觸式曝光機LSCE-800接觸式曝光機指掩膜板直接與基板的光刻膠層接觸，曝光出來的圖形與掩膜板上的圖形分辨率準確度高，設備簡單，線寬可達800nm；可以配合使用多種型號的正光阻和負光阻；適用于從特殊大小的基片到4尺寸很寬廣范圍材料的紫外或深紫外光曝光。可廣泛應用于半導體制造，光電電子，平板，射頻微波，衍射光學，微機電系統，凹凸或覆......

詳細介紹

用途：接觸式曝光指掩膜板直接與基板的光刻膠層接觸。曝光出來的圖形與掩膜板上的圖形分辨率準確度高，設備簡單；
1.半導體制造；
2.光電電子、平板；
3.射頻微波，衍射光學；
4.微機電系統；
5.凹凸或覆晶設備等。
主要規格：線寬可達800nm；可以配合使用多種型號的正光阻和負光阻；
適用晶片尺寸：樣品尺寸不能大于6英寸。
產品特點：
1.分辨率準確；
2.更廣范圍的紫外光波長選擇；
3.支持恒定光強或恒定功率模式；
4.廣泛應用于半導體、微電子、生物器件和納米科技領域。