蘇州芯矽電子科技有限公司
詳細摘要： 半導(dǎo)體超聲波清洗機是晶圓制造與封裝環(huán)節(jié)的關(guān)鍵設(shè)備，通過高頻超聲波（20-120kHz）在清洗液中產(chǎn)生空化效應(yīng)，剝離芯片表面的微粒、有機物及光刻膠殘留。其核心優(yōu)勢...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-06-11 在線留言
詳細摘要： 全自動BOE濕法清洗機專為半導(dǎo)體晶圓氧化層精準蝕刻設(shè)計，采用緩沖氧化物刻蝕液（BOE，HF/NH?F體系）實現(xiàn)SiO?、SiN?等材料的選擇性去除。設(shè)備集成PL...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-06-11 在線留言
詳細摘要： 濕法清洗機專為半導(dǎo)體晶圓表面清潔設(shè)計，集成RCA標準工藝（SC-1/SC-2）與兆聲波強化技術(shù)，高效去除有機物、金屬污染及顆粒殘留。設(shè)備采用全自動槽式或單片式結(jié)...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-06-11 在線留言
詳細摘要： RCA清洗機臺專為半導(dǎo)體晶圓高效清洗設(shè)計，集成SC-1/SC-2濕法工藝，采用耐腐蝕石英槽體與全自動藥液循環(huán)系統(tǒng)，支持多參數(shù)精準控制。設(shè)備配備兆聲波強化顆粒去除...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-06-11 在線留言
詳細摘要： SC-1清洗機是半導(dǎo)體制造中用于去除晶圓表面顆粒、有機物及金屬雜質(zhì)的關(guān)鍵設(shè)備，基于RCA標準清洗工藝。其核心為SC-1溶液（由氫氧化銨NH4OH、過氧化氫H2O...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-06-10 在線留言
詳細摘要： 濕法蝕刻設(shè)備是半導(dǎo)體制造中用于通過化學(xué)溶液選擇性腐蝕材料的關(guān)鍵工藝工具。該設(shè)備在成熟制程（如電源管理芯片、傳感器）中不可替代，未來發(fā)展方向包括環(huán)保型蝕刻液研發(fā)（...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-06-10 在線留言
詳細摘要： 濕法清洗與刻蝕系統(tǒng)是半導(dǎo)體制造中通過化學(xué)溶液去除晶圓表面污染物（如顆粒、有機物、金屬雜質(zhì)）或特定薄膜（如氧化硅、氮化硅、金屬層）的工藝設(shè)備。該系統(tǒng)分為槽式批量清...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-06-10 在線留言
詳細摘要： 爐前清洗機是鋼鐵冶煉環(huán)節(jié)中的關(guān)鍵設(shè)備，主要用于清除鋼坯或鋼材表面的氧化鐵皮、雜質(zhì)及殘留熔渣。其通過高壓水射流、機械刷磨或化學(xué)噴淋等方式，在高溫環(huán)境下（通常達80...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-06-10 在線留言
詳細摘要： 晶圓電鍍設(shè)備是半導(dǎo)體制造中用于沉積金屬薄膜（如銅、鎳、金）的關(guān)鍵設(shè)備，廣泛應(yīng)用于芯片互連、TSV硅通孔及封裝凸點工藝。是封裝（如3D NAND、HBM）與芯片級...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-06-10 在線留言
詳細摘要： 晶圓自動清洗機是半導(dǎo)體制造中用于高效清潔晶圓表面的關(guān)鍵設(shè)備，通過自動化流程去除顆粒、有機物及金屬殘留，確保芯片良率與性能。
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-06-10 在線留言
詳細摘要： 硅芯硅棒清洗機是一種用于半導(dǎo)體、光伏等領(lǐng)域的專用設(shè)備，主要針對硅芯、硅棒表面的污染物、氧化層及殘留雜質(zhì)進行高效清洗。廣泛應(yīng)用于單晶硅棒、半導(dǎo)體硅芯、石英坩堝清洗...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-06-10 在線留言
詳細摘要： 深硅刻蝕設(shè)備是半導(dǎo)體制造中用于高深寬比硅結(jié)構(gòu)加工的核心設(shè)備，廣泛應(yīng)用于MEMS、3D封裝及功率器件領(lǐng)域。
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-06-10 在線留言
詳細摘要： 8寸槽式清洗機是專為半導(dǎo)體、光伏及精密工業(yè)設(shè)計的濕法清洗設(shè)備，支持8英寸晶圓或硅片的批量處理。廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體制造（如光刻前清洗）、光伏硅片處理等，是保障產(chǎn)品良...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-06-10 在線留言
詳細摘要： 酸孔蝕刻機是一種利用酸性溶液化學(xué)腐蝕原理進行蝕刻的設(shè)備。它通過控制酸性溶液的濃度、溫度等參數(shù)，對材料表面進行精確蝕刻，可形成特定圖案或結(jié)構(gòu)。在半導(dǎo)體、PCB板制...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-28 在線留言
詳細摘要： 半導(dǎo)體清洗機設(shè)備是半導(dǎo)體制造中的關(guān)鍵設(shè)備。它主要用于清除半導(dǎo)體晶圓表面的各種污染物，如灰塵、有機物、金屬離子等。其工作原理多樣，常見的有濕法清洗和干法清洗。濕法...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-28 在線留言
詳細摘要： 半導(dǎo)體晶圓清洗設(shè)備是芯片制造中用于去除晶圓表面污染物（如顆粒、有機物、金屬殘留）的關(guān)鍵工藝設(shè)備，通過物理（超聲波/兆聲波）或化學(xué)（濕法腐蝕）手段實現(xiàn)納米級潔凈度...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-28 在線留言
詳細摘要： 晶圓清洗機是半導(dǎo)體制造中用于去除晶圓表面污染物的關(guān)鍵設(shè)備，通過濕法化學(xué)、超聲波、兆聲波或刷洗等技術(shù)實現(xiàn)高精度清潔。其核心工藝包括化學(xué)腐蝕、流體沖刷、顆粒過濾及干...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-28 在線留言
詳細摘要： 濕法去膠清洗機是半導(dǎo)體制造中用于去除光刻膠殘留的關(guān)鍵設(shè)備，主要通過化學(xué)溶劑（如NMP、PGMEA、TMAH等）溶解或分解光刻膠，結(jié)合物理沖刷（噴淋、超聲波或兆聲...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-28 在線留言
詳細摘要： 濕制程清洗設(shè)備是半導(dǎo)體制造中用于去除晶圓、掩模版等表面污染物（如顆粒、有機物、金屬沉積物）的核心設(shè)備，通過化學(xué)濕法、超聲波/兆聲波空化及流體控制技術(shù)實現(xiàn)高精度清...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-27 在線留言
詳細摘要： 掩模板清洗機是半導(dǎo)體制造中用于去除光掩模版表面污染物（如顆粒、光刻膠殘留、金屬沉積物）的關(guān)鍵設(shè)備，通過濕法化學(xué)清洗、超聲波空化或等離子體干法處理，確保掩模圖案精...
產(chǎn)品型號：所在地：蘇州市更新時間：2025-05-27 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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