工控摘要:多晶硅,是單質硅的一種形態。熔融的單質硅在過冷條件下凝固時,硅原子以金剛石晶格形態排列成許多晶核,如這些晶核長成晶面取向不同的晶粒,則這些晶粒結合起來,就結晶成多晶硅。
利用價值:從目前太陽電池的發展過程可以看出其發展趨勢為單晶硅、多晶硅、帶狀硅、薄膜材料(包括微晶硅基薄膜、化合物基薄膜及染料薄膜)。
1.裝料
將裝有涂層的石英坩堝在熱交換臺上,加入硅原料,然后安裝加熱設備、隔熱設備和爐罩,將爐內抽真空使爐內壓力降至0.05-0.1mbar并保持真空。通入氬氣作為保護氣,使爐內壓力基本維持在400-600mbar左右。
2.加熱
利用石墨加熱器給爐體加熱,首先使石墨部件、隔熱層、硅原料等表面吸附的濕氣蒸發,然后緩慢加溫,使石英坩堝的溫度達到1200-1300℃左右,該過程需要4-5h。
3.化料
通入氬氣作為保護氣,使爐內壓力基本維持在400-600mbar左右。逐漸增加加熱功率,使適應坩堝內的溫度達到1500℃左右,硅原料開始熔化。熔化過程中一直保證1500℃左右,直至化料結束。該過程約要20-22h。
4.晶體生長
硅原料熔化結束后,降低加熱功率,使適應坩堝的溫度降至1420-1440℃硅熔點左右。然后石英坩堝逐漸向下移動,或者隔熱裝置逐漸上升,使得石英坩堝慢慢脫離加熱區,與周圍形成熱交換;同時,冷卻板通水,使熔體的溫度自底部開始降低,晶體硅首先在底部形成,生長過程中固液界面始終保持與水平面平行,直至晶體生長完成,該過程約要20-22h。
5.退火
晶體生長完成后,由于晶體底部和上部存在較大的溫度梯度,因此,晶錠中可能存在熱應力,在硅片加熱和電池制備過程中容易再次硅片碎裂。所以,晶體生長完成后,硅錠保持在熔點附近2-4h,使硅錠溫度均勻,減少熱應力。
6.冷卻
硅錠在爐內退火后,關閉加熱功率,提升隔熱裝置或者*下降硅錠,爐內通入大流量氬氣,使硅錠溫度逐漸降低至室溫附近;同時,爐內氣壓逐漸上升,直至達到大氣壓,該過程約要10h。
利用價值:從目前太陽電池的發展過程可以看出其發展趨勢為單晶硅、多晶硅、帶狀硅、薄膜材料(包括微晶硅基薄膜、化合物基薄膜及染料薄膜)。
1.裝料
將裝有涂層的石英坩堝在熱交換臺上,加入硅原料,然后安裝加熱設備、隔熱設備和爐罩,將爐內抽真空使爐內壓力降至0.05-0.1mbar并保持真空。通入氬氣作為保護氣,使爐內壓力基本維持在400-600mbar左右。
2.加熱
利用石墨加熱器給爐體加熱,首先使石墨部件、隔熱層、硅原料等表面吸附的濕氣蒸發,然后緩慢加溫,使石英坩堝的溫度達到1200-1300℃左右,該過程需要4-5h。
3.化料
通入氬氣作為保護氣,使爐內壓力基本維持在400-600mbar左右。逐漸增加加熱功率,使適應坩堝內的溫度達到1500℃左右,硅原料開始熔化。熔化過程中一直保證1500℃左右,直至化料結束。該過程約要20-22h。
4.晶體生長
硅原料熔化結束后,降低加熱功率,使適應坩堝的溫度降至1420-1440℃硅熔點左右。然后石英坩堝逐漸向下移動,或者隔熱裝置逐漸上升,使得石英坩堝慢慢脫離加熱區,與周圍形成熱交換;同時,冷卻板通水,使熔體的溫度自底部開始降低,晶體硅首先在底部形成,生長過程中固液界面始終保持與水平面平行,直至晶體生長完成,該過程約要20-22h。
5.退火
晶體生長完成后,由于晶體底部和上部存在較大的溫度梯度,因此,晶錠中可能存在熱應力,在硅片加熱和電池制備過程中容易再次硅片碎裂。所以,晶體生長完成后,硅錠保持在熔點附近2-4h,使硅錠溫度均勻,減少熱應力。
6.冷卻
硅錠在爐內退火后,關閉加熱功率,提升隔熱裝置或者*下降硅錠,爐內通入大流量氬氣,使硅錠溫度逐漸降低至室溫附近;同時,爐內氣壓逐漸上升,直至達到大氣壓,該過程約要10h。
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