TC-Wafer晶圓溫度測量系統 晶圓溫度傳感器支持用戶定制

      TC-Wafer是將高精度溫度傳感器鑲嵌在晶圓表面，對晶圓表面的溫度進行實時測量。通過晶圓的測溫點了解特定位置晶圓的真實溫度，以及晶圓整體的溫度分布，同還可以監控半導體設備控溫過程中晶圓發生的溫度變化，獲得升溫、降溫以及恒溫過程期間的溫度溫度數據，從而了解半導體設備的溫度均勻度。

TC-Wafer晶圓溫度測量系統利用熱電效應來測量溫度。其基本原理是在晶圓表面埋入微小的熱電偶元件，當晶圓表面溫度發生變化時，熱電偶產生微弱的電壓信號。通過測量這些電壓信號，可以準確地計算出晶圓的溫度變化。
晶圓熱電偶溫度傳感器通過探針與晶片之間的熱電偶效應來測量溫度。熱電偶是一種基于熱電效應的傳感器，它可以將溫度轉化為電壓信號。當探針與晶片接觸時，熱電偶會產生一個電壓信號，該信號被控制器接收并轉換成數字信號。然后，數字信號被發送到顯示屏上進行顯示。
在半導體工藝中，TC Wafer晶圓熱電偶可用于多種應用場景，包括光刻、刻蝕、薄膜沉積等。其能夠實現————的溫度控制，從而提高工藝的穩定性和準確性，提高產品的質量和性能。此外，其還可以用于廢料處理和設備維護等，提高生產效率和成本效益

產品優勢

高精度：由于其直接嵌入在晶圓表面，可以實現對晶圓溫度的實時、精確監測。

可靠性：傳感器材料穩定，適應長期運行，不易受到外界干擾。

高靈敏度：微小的溫度變化也能被傳感器準確地捕捉，確保制程的穩定性。

即時性：傳感器的實時性能使得生產線上的溫度調整能夠迅速響應，減少生產過程中的溫度波動。

產品應用

TC-Wafer晶圓溫度測量系統應用于許多行業，包括快速熱處理 (RTP)、快速熱退火 (RTA)、曝光后烘烤 (PEB)、化學氣相沉積 (CVD)、物理氣相沉積 (PVD)、ION 等應用注入、太陽能電池和許多其他熱驅動工藝。智測電子具有高精度溫度測量與控制技術和經驗，支持產品定制

TC-Wafer晶圓溫度測量系統 晶圓溫度傳感器支持用戶定制