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寧波潤華全芯微電子設備有限公司


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半自動勻膠顯影機

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更新時間:2023-06-11 18:49:53瀏覽次數:1050次

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所在地區:浙江寧波市

產品簡介

手動上、下片

詳細介紹

手動上、下片,自動對位和自動滴膠、顯影,晶圓背部清洗(BSR),邊緣清洗(EBR)CUP腔體自動清洗,CUP方便拆卸,限度減少光刻膠及顯影液堆積膠嘴具有保濕功能,防止由于勻膠機間歇生產而造成光刻膠干化 晶片尺寸
2-12英寸,圓形及方形基片,光刻膠旋涂及顯影工藝

主要技術參數
1、晶片尺寸: 2-12寸
2、上下料方式: 手動取送片
3、離心機轉速
額定轉速: 6000 rpm
最小調整量: 1rpm
轉速精度: ±2rpm(50 rpm~6000 rpm)
4、吸盤(Chuck)
晶片固定方式: 真空吸附
吸盤真空檢測: 數顯真空壓力傳感器
材質: PPS、陶瓷(可根據客戶提供材質制作)
5、收集杯材質(CUP): PP,氣液分離排放
6、供液方式: 自動供膠、自動顯影
7、光刻膠黏度: MAX. 10000CP
8、光刻膠種類: MAX. 3種
9、光刻膠保濕功能: 丙酮藥液保濕盒
10、光刻膠清洗功能: 晶圓背部清洗;晶圓邊緣清洗
11、顯影液種類: MAX. 2種

12、光刻膠/顯影液過濾: 有,0.1um/0.2um可選


應用行業
廣泛服務于MEMS、OLED、光通信、SAW、*封裝、科研等領域

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