詳細摘要: 一、產品使用范圍: ? 彎月牙涂膠基板尺寸:1400 mm×420 mm×200 mm);? 液體膠刀的有效尺寸
產品型號:M+4500所在地:西安市更新時間:2025-04-30 在線留言PLC 工控機 嵌入式系統(tǒng) 人機界面 工業(yè)以太網 現(xiàn)場總線 變頻器 機器視覺 DCS PAC/PLMC SCADA 工業(yè)軟件 ICS信息安全 應用方案 無線通訊
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詳細摘要: 一、產品使用范圍: ? 彎月牙涂膠基板尺寸:1400 mm×420 mm×200 mm);? 液體膠刀的有效尺寸
產品型號:M+4500所在地:西安市更新時間:2025-04-30 在線留言詳細摘要: 半自動涂膠顯影機 型號:M+200D適用用圓片尺寸: 2"、3"、4";以及5x5,10x10,25x25方片工藝工步:放置圓片(可輔助定中心)啟動防濺罩到上...
產品型號:M+100C-M所在地:西安市更新時間:2025-03-28 在線留言詳細摘要: 設備實現(xiàn)2“-12“晶圓兼容涂膠、顯影模塊自帶暫停/恢復功能同片盒內每個硅片可分別制定工藝運行設備和各工位全封閉設計,不受外環(huán)境干擾可獨立增加層流罩,提升小環(huán)境...
產品型號:M+100CD所在地:西安市更新時間:2025-03-25 在線留言詳細摘要: 大尺寸勻膠機,尺寸范圍:500-500,厚度8mm勻膠機主軸速度:3500RPM勻膠機可增加功能有:自動供液系統(tǒng) -自動排風系統(tǒng)-自動背洗功能大尺寸勻膠機,尺寸...
產品型號:M+500C所在地:西安市更新時間:2025-02-28 在線留言詳細摘要: 產品特點:方形基片的邊緣清洗邊緣區(qū)域:1-20mm基片厚度要求:0.5-20mm自動對準邊緣尺寸液體噴嘴數(shù)量可選可增配
產品型號:M+450-EBR所在地:西安市更新時間:2024-12-11 在線留言詳細摘要: 超大尺寸勻膠設備 M+/1500-C,主要用于完成基片光阻涂布工藝。設備可分別配置主軸旋轉裝置、 光阻供液系統(tǒng)(腔體清洗液)、排風系統(tǒng)、上料裝置、控制部份等;設...
產品型號:M+1200所在地:西安市更新時間:2024-07-22 在線留言詳細摘要: 勻膠機-針對實驗室使用勻膠機是在高速旋轉的基片上,滴注各類膠液,利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設備,膜的厚度取決于勻膠機的轉速和溶膠的黏度
產品型號:M+150-M所在地:西安市更新時間:2024-01-22 在線留言詳細摘要: 量子點是一種通常僅由幾千個原子組成的晶體,就大小而言,它與足球的比例就相當于足球與地球的比例。這么小的粒子,我們肉眼是看不見的,但它們卻有著非常特殊的性質。
產品型號:M+S200-S所在地:西安市更新時間:2024-01-19 在線留言詳細摘要: 自動勻膠顯影機使用范圍:pumping封裝、3D-TSV、MEMS、OLED等領域PR工藝涂膠膠顯影;產能:預估100wafer/H;產品種類:晶片如硅、玻璃片...
產品型號:M+300所在地:西安市更新時間:2023-12-29 在線留言詳細摘要: 方形基片勻膠機,型號M+/C450-40,主要用于完成方形基片(全息光柵涂膠機)、大尺寸玻璃片勻膠機、方形基片顯影機等勻膠、顯影、清洗工藝玻璃片尺寸wafer ...
產品型號:M+D450所在地:西安市更新時間:2023-12-28 在線留言詳細摘要: 桌面式自動批量晶片轉移器是為批量晶圓轉移設計的自動晶圓轉移設備,實現(xiàn)批量晶片在兩個晶片盒之間水平“滑動傳送"。 大多數(shù)與高剖面和低剖面晶圓片盒框架盒兼容。晶圓...
產品型號:M+S200所在地:西安市更新時間:2023-12-28 在線留言您感興趣的產品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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