陜西愛姆加電子設(shè)備有限公司
詳細(xì)摘要： 勻膠機-針對實驗室使用勻膠機是在高速旋轉(zhuǎn)的基片上，滴注各類膠液，利用離心力使滴在基片上的膠液均勻地涂覆在基片上的設(shè)備，膜的厚度取決于勻膠機的轉(zhuǎn)速和溶膠的黏度
產(chǎn)品型號：M+150-M所在地：西安市更新時間：2024-01-22 在線留言
詳細(xì)摘要： 型號：Ｍ+-SM300×300噴霧式涂布機主要用于開發(fā)研究和各種半導(dǎo)體器件（MEMS）和微機械。對應(yīng)于超厚膜涂層，它是很難通過常規(guī)的旋涂機微粒的化學(xué)溶...
產(chǎn)品型號：M+200S所在地：西安市更新時間：2023-12-11 在線留言
詳細(xì)摘要： 自動勻膠顯影機使用范圍：pumping封裝、3D-TSV、MEMS、OLED等領(lǐng)域PR工藝涂膠膠顯影；產(chǎn)能：預(yù)估100wafer/H;產(chǎn)品種類：晶片如硅、玻璃片...
產(chǎn)品型號：M+300所在地：西安市更新時間：2023-12-29 在線留言
詳細(xì)摘要： 主要特點：線性布局，自動傳片，自動完成去膠工藝。晶圓尺寸根據(jù)用戶需求。腔體共有三層，每層都有單獨的藥液排放 循環(huán)功能。清洗多種金屬顆粒和有機物殘留。藥液在循環(huán)中...
產(chǎn)品型號：M+100-L所在地：西安市更新時間：2023-12-29 在線留言
詳細(xì)摘要： 設(shè)備實現(xiàn)2“-12“晶圓兼容涂膠、顯影模塊自帶暫停/恢復(fù)功能同片盒內(nèi)每個硅片可分別制定工藝運行設(shè)備和各工位全封閉設(shè)計，不受外環(huán)境干擾可獨立增加層流罩，提升小環(huán)境...
產(chǎn)品型號：M+100CD所在地：西安市更新時間：2025-03-25 在線留言
詳細(xì)摘要： 半自動涂膠顯影機 型號：M+200Ｄ適用用圓片尺寸: 2"、3"、4"；以及5x5,10x10,25x25方片工藝工步：放置圓片（可輔助定中心）啟動防濺罩到上...
產(chǎn)品型號：M+100C-M所在地：西安市更新時間：2025-03-28 在線留言
詳細(xì)摘要： 超大尺寸勻膠設(shè)備 M+/1500-Ｃ，主要用于完成基片光阻涂布工藝。設(shè)備可分別配置主軸旋轉(zhuǎn)裝置、 光阻供液系統(tǒng)（腔體清洗液）、排風(fēng)系統(tǒng)、上料裝置、控制部份等；設(shè)...
產(chǎn)品型號：M+1200所在地：西安市更新時間：2024-07-22 在線留言
詳細(xì)摘要： 一、主要技術(shù)規(guī)格：1. 適應(yīng)2〞~8〞晶圓烘烤2. 熱板溫度： 60℃-300℃（溫度為150℃以上請勿合蓋）3. 溫度均勻性： ±1℃（Φ...
產(chǎn)品型號：M+HP200所在地：西安市更新時間：2023-12-20 在線留言
詳細(xì)摘要： 一、主要技術(shù)規(guī)格：1. 適應(yīng)2〞~8〞晶圓烘烤2. 熱板溫度： 60℃-300℃（溫度為150℃以上請勿合蓋）3. 溫度均勻性： ±1℃（Φ...
產(chǎn)品型號：M+HP200-1所在地：西安市更新時間：2025-04-17 在線留言
詳細(xì)摘要： 半導(dǎo)體制冷技術(shù)已經(jīng)成為了一種具有廣泛應(yīng)用前景的技術(shù)。從微型電子設(shè)備到大型冷凍倉庫，半導(dǎo)體制冷技術(shù)都發(fā)揮著的作用。那么，半導(dǎo)體制冷原理究竟是什么呢
產(chǎn)品型號：M+100HC所在地：西安市更新時間：2023-12-28 在線留言
詳細(xì)摘要： 量子點是一種通常僅由幾千個原子組成的晶體，就大小而言，它與足球的比例就相當(dāng)于足球與地球的比例。這么小的粒子，我們?nèi)庋凼强床灰姷?，但它們卻有著非常特殊的性質(zhì)。
產(chǎn)品型號：M+S200-S所在地：西安市更新時間：2024-01-19 在線留言
詳細(xì)摘要： 方形基片勻膠機，型號M+/C450-40，主要用于完成方形基片（全息光柵涂膠機）、大尺寸玻璃片勻膠機、方形基片顯影機等勻膠、顯影、清洗工藝玻璃片尺寸wafer ...
產(chǎn)品型號：M+D450所在地：西安市更新時間：2023-12-28 在線留言您感興趣的產(chǎn)品PRODUCTS YOU ARE INTERESTED IN
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