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最近幾個月來，全球半導體產能緊張，其中55nm工藝遠比想象中缺貨，反而7nm、5nm等尖端工藝并不是那么缺貨。
日前，在中國工程院主辦的“中國工程院信息與電子工程前沿論壇”上，中國工程院院士吳漢明對光刻機、產業鏈國產化等關鍵問題進行了分析。
在整個產業鏈環節，重點的三大“卡脖子”制造環節包括了工藝、裝備/材料、設計IP核/EDA。他表示，在半導體材料方面，我國光刻膠、掩膜版、大硅片產品幾乎都要依賴進口；在裝備領域，世界舞臺上看不到中國裝備的身影。
此外，吳漢明提到，10nm節點以下先進產能占17%，83%市場在10nm以上節點，創新空間巨大。
在先進制程研發不占優勢的情況下，我國可以運用成熟的工藝，把芯片的性能提升，這也是他提出的一個觀點：本土可控的55nm芯片制造，比完全進口的7nm更有意義。
吳漢明強調，自主可控固然重要，但也要認識到集成電路產業是全球性的產業。
以EUV光刻機為例，涉及到十多萬零部件，需要5000多供應商支撐，其中32%在荷蘭和英國，27%供應商在美國，14%在德國，27%在日本，這就體現了全球化技術協作的結果。
在其中，“我們有哪些環節拿得住的？是我國研發和產業發展的核心點。”
“雖然芯片的難度和成本一直增加，但趨緩的摩爾定律給追趕者帶來機會。”吳漢明分析稱，在這些挑戰下，先進系統結構、特色工藝和先進封裝在芯片制造方面結合運用，芯片制造領域大有可為。
(原標題：中國工程院院士：本土可控的55nm比進口7nm更有意義)
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