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半導體技術不會停!華為又拿下一個專利:可降低工藝成本

2023-06-21 14:18:39來源:快科技 關鍵詞:半導體技術芯片制造晶體管閱讀量:22423

導讀:6月20日消息,作為國內(nèi)專利數(shù)最多的公司之一,華為近年來也獲得了大量半導體技術上的專利,日前華為又拿下了一種制備晶體管的專利,可以降低工藝成本。
  這個專利公開號為CN116266536A,涉及的專利名稱為“晶體管的制備方法和晶體管”,用于制備芯片基礎單元晶體管的。
 
  專利摘要顯示,本申請晶體管的制備方法,利用在蝕刻層間介質(zhì)層進行開設槽型孔的過程中一并蝕刻去除所述虛擬柵極,并利用槽型孔形成金屬柵極。
 
  相比現(xiàn)有高介電常數(shù)金屬柵極制備工藝,可節(jié)省工藝步驟,降低工藝成本。
 
  具體方法包括提供半導體襯底;在半導體襯底上依次層疊形成氧化物介質(zhì)層、高K介質(zhì)層、虛擬柵極;在半導體襯底中開設凹槽,并在凹槽中形成源極和漏極;
 
  形成覆蓋半導體襯底和虛擬柵極的層間介質(zhì)層;在層間介質(zhì)層中形成分別對準源極和漏極的通孔和對準虛擬柵極的槽型孔,在形成槽型孔的過程中去除虛擬柵極;
 
  在槽型孔和通孔中形成導電金屬材料。本申請還提供應用該方法制得的晶體管。
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