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Intel宣布世界最先進光刻機投產!晶圓生產效率/可靠性翻倍

2025-02-26 14:35:24來源:快科技 關鍵詞:Intel光刻機晶圓生產閱讀量:20226

導讀:Intel宣布,ASML首批兩臺高數值孔徑(High-NA EUV)極紫光刻機已經在其工廠投入生產。據悉,Intel利用先進光刻機已在一季內生產3萬片晶圓,這些晶圓可以產出數千顆計算芯片。
  2月25日消息,Intel宣布,ASML首批兩臺高數值孔徑(High-NA EUV)極紫光刻機已經在其工廠投入生產。初步數據顯示,其效率、可靠性比上一代EUV光刻機都有明顯提升。
 
  Intel資深首席工程師Steve Carson表示,Intel利用先進光刻機已在一季內生產3萬片晶圓,這些晶圓可以產出數千顆計算芯片。
 
  這兩臺光刻機是目前世界上最先進的光刻機,能夠比之前的阿斯麥光刻機生產出更小、更快的計算芯片。
 
  去年,Intel成為了全球首家接收這些光刻機的芯片制造商。此舉是Intel的戰略轉變,該公司在采用上一代極紫外 (EUV) 光刻機方面落后于競爭對手。
 
  Intel花了七年時間才將之前的機器全面投入生產,導致其領先優勢被臺積電超越。 在生產初期,Intel曾因先前那些EUV機型的可靠性問題而遇到挫折。
 
  不過Carson表示,ASML的高數值孔徑(High-NA EUV)極紫光刻機在初步測試中的可靠性大約是前一代機器的兩倍,“我們能以一致速度生產晶圓,這對平臺是一大幫助”。
 
  同時,新的光刻機能以更少曝光次數完成與早期設備相同的工作,從而節省時間和成本。 Carson指出,Intel工廠的早期結果顯示,高數值孔徑(High-NA EUV)極紫光刻機只需要一次曝光和個位數的處理步驟,即可完成早期機器需要三次曝光和約40個處理步驟的工作。
 
  去年2月份,ASML首次在其荷蘭總部向媒體公開展示了最新一代的High NA EUV光刻機。
 
  據悉,一套High NA EUV光刻機的大小等同于一臺雙層巴士,重量更高達150噸,組裝起來比卡車還大,需要被分裝在250個單獨的板條箱中進行運輸。
 
  裝機時間預計需要250名工程人員、歷時6個月才能安裝完成。
 
  根據爆料顯示,High NA EUV的售價高達3.5億歐元一臺,約合人民幣27億元,它將成為全球三大晶圓制造廠實現2nm以下先進制程大規模量產的必備武器。
 
  2023年12月,Intel率先拿下了全球首臺High NA EUV光刻機,臺積電和三星訂購High NA EUV預計最快2026年到貨。
 
  公開資料顯示,NA數值孔徑是光刻機光學系統的重要指標,直接決定了光刻的實際分辨率,以及最高能達到的工藝節點。
 
  一般來說,金屬間距縮小到30nm以下之后,也就是對應的工藝節點超越5nm,低數值孔徑光刻機的分辨率就不夠了,只能使用EUV雙重曝光或曝光成形(pattern shaping)技術來輔助
 
  這樣不但會大大增加成本,還會降低良品率。因此,更高數值孔徑成為必需。
 
  Intel表示,計劃使用High NA EUV光刻機來協助開發其18A制程,該技術預計今年稍晚時隨著新一代PC芯片進入量產。
 
  此外,Intel計劃在下一代14A制程中全面導入這款設備,但尚未公布該技術量產時間。
 
  原標題:世界最先進!ASML High-NA EUV光刻機已在Intel投入生產:晶圓生產效率、可靠性翻倍
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